二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9134876 待售

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ID: 9134876
Wafer edge exposure (WEE) system 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz是光刻膠的非接觸式曝光設備。它是一個完全集成和自動化的系統,結合了曝光、對齊、數據記錄和晶圓處理過程。該裝置提供高通量,設計用於生產復雜和高度詳細的微觀結構,如用於光刻的極紫外線(EUV)光掩模。TEL MARK-VZ配備了基於激光的投影機。它采用超高密度、高帶寬、多點激光器來實現高速、精確的曝光。投影工具允許高分辨率和均勻性的大晶圓直徑曝光。此外,它還具有獨特的高度精確的可變光斑大小模式,允許在投影過程中改變激光束光斑大小,從而優化性能。這種資產支持各種各樣的光掩模,包括不透明、透射和衍射掩模,並且可以產生廣泛的結構,從小到大的圖案。該型號還配備了用於定位和定向的晶圓級。晶片級利用雙軸、高精度對準和旋轉設備進行晶片加載、對準和曝光。系統能夠掃描晶片邊緣並在曝光前預先對準晶片。該單元的精度和高速旋轉保證了精確準確的曝光。TOKYO ELECTRON MARK V-Z基於激光的非接觸式曝光最大限度地提高了機器的吞吐量,集成的晶圓處理器和掃描工具有助於減少晶圓的損傷和汙染。此外,資產還具有一個內建的數據記錄模型,用於跟蹤每個晶圓的曝光歷史記錄。這些數據可用於質量控制和質量保證目的。當光刻膠需要可靠、高精度的曝光設備時,TEL MARK Vz是一個極好的選擇。它能夠產生錯綜復雜、高度詳細的微觀結構,而且失真最小。此外,它是可調的,運行效率高,並產生一致的結果。TEL MARK V-Z專為工業級生產光掩模而設計,滿足最苛刻應用的需求。
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