二手 ORC HMW-615N-4 #9138204 待售

ORC HMW-615N-4是一種強大而高效的曝光設備,設計用於各種光刻工藝。該系統配備了HeNe 515 nm激光源，使曝光範圍從0.5 μ m到6 μ m不等。此外，該裝置能夠提供高達800 W/cm2的輸出功率，並且能夠使用微米刻度進行高精度對準。機器的激光源極其可靠和準確，在保持卓越質量的同時實現了高吞吐量。此外，激光源還配備了波長和帶寬調節功能，為用戶提供了極大的靈活性，並允許在各種光刻過程中操作曝光工具。該資產配有一個有源光學模塊（AOM），允許模型的精確對準和基板的觀察位置的精確調整。此外，設備可以配備手動或電動舞臺，以便於基板定位，由操縱桿或計算機控制精確控制。此外，激光源可以使用微米尺度精確對準。在安全性方面，ORC HW-615N-4配備了幾個安全特性。其中包括背壓傳感器、緊急關閉開關、緊急停止按鈕、排氣過濾器以及用於防止過熱積聚的緊急冷卻風扇。在使用方面，該系統提供了廣泛的應用，使其非常適合半導體工業中的光刻工藝。它還非常方便用戶,能夠提供各種易於理解的調整選項和預設,這些選項和預設可以快速配置以滿足用戶的需求。HMW-615N-4是一個小巧且經濟實惠的曝光單元,具有令人印象深刻的一系列特性,非常適合光刻工藝。其可靠的性能、可調節的設置和安全特性使其成為半導體行業高通量工藝的理想選擇。