二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML M 761 #9072094 待售

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SVG / PERKIN ELMER / ASML M 761
已售出
ID: 9072094
晶圓大小: 6"
Mask aligner, 6" Wafer type: Semi flat Cassettes: Fluoroware Version dash -003 Auto-fine-alignment (AFA) Automatic variable magnification (AVM) Alarm and signal tower Auto-uniformity-slit Helium management system (HMS) Aim system Motorized carousel arm with enhanced control option Pick and place wafer transport system (PAL) Mini-mag strong shell Hardware options: Aim Computer Type: Pentium (Y2K Compliance) Power Supply: 230 Vac, 50 Hz, 1 Phase Fan-coil-unit (FCU): Inlet Air Automation: Optional.
SVG/PERKIN ELMER/ASML M 761是一種掩模對齊器,用來製造精確、高精度的光掩模用於微電子器件的生產。它是由幾個模塊和組件組成的設備:掩模對準表、曝光系統、光源和多軸控制單元。蒙版對齊表的設計提供了一個可以針對X-Y和亞微米Z軸運動進行精確調整的堅實平臺。它還提供了一定程度的掩模放置精度,這對於產生高質量的光掩模至關重要。對齊表能夠在對齊過程中同時攜帶蒙版和晶片。曝光機由可移動光學器件、光源和真空密封室組成。該工具的光學器件用於將掩模的電子圖樣精確投影到晶片上。SVG M 761的光源是超高功率氙燈,為小規模圖案的曝光提供明亮照明。真空密封室將曝光資產光學器件封閉起來,以確保曝光不會受到環境中灰塵或汙染物的汙染。多軸控制模型允許對齊器和曝光設備在各個方向無縫移動。此外,控制系統還包括一個計算機界面,可方便用戶地操作設備。該機具有精確監控和控制掩模與晶片對準的能力,精度為亞微米分辨率。這些特性的結合使得ASML M 761成為制造用於微電子器件生產的高級口罩的必要工具。它能夠以最小的浪費和最大的效率生產高質量的光掩模。PERKIN ELMER M 761還提供了高度的定制和適應性。它與多種光源、曝光時間、遮罩尺寸兼容,幾乎適合任何應用。M 761具有易用性和高性能,是目前最可靠和最可靠的掩模對齊器之一。
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