二手 SEMITOOL 280S #9255444 待售

SEMITOOL 280S是一種用於晶圓制造工藝的光刻設備。該系統可用於曝光和開發化學放大光刻膠，是光刻工藝的理想選擇。該單元針對HDRIP（高密度釋放壓印）工藝進行了優化,能夠提供高精度的抗蝕劑輪廓,分辨率為0.5微米。該機配有先進的紫外線照相機，可集成到工藝控制中，對光刻工藝進行持續監測和評估。該工具有一個配有兩個透鏡和一個冷凝器透鏡組件的光學組件。光學組件安裝在精密的高分辨率定位臺上，可實現XY方向的高精度移動。舞臺在Z軸上也是可編程的，能夠精確對準掩模和較低的鏡頭，以及對焦控制。資產還有一個用於裝卸口罩和基板的全自動口罩盒式磁帶，以及一個基板對準模塊，能夠精確調整位置和方向以提高準確性。此外，它還具有自動基板卸載功能和帶條形碼讀取的機器人晶圓處理功能。光刻膠開發模型使用批處理方法，是光刻膠加工的單室設計，使得為適當的抗蝕劑化學量身定制的大量可用配方設置成為可能。該設備具有標準的sogginess系統，該系統具有清潔氣體裝置、薄膜測量機以及可調節的溫度和壓力設置，可用於精確的sogginess開發。除了傳統的光刻和沈積系統外，280S還具有底部防反射塗層（BARC）模塊，可用於在晶圓底面沈積抗反射層，以降低表面反射率和提高性能。該工具還可用於開發後的處理，如烘烤、酸痛去除、氧氣或氮氣退火。資產的軟件控制模型允許用戶定制開發配方，監控整個過程。它還有一個遠程診斷和修復設備,可以從任何具有Internet功能的計算機訪問,以診斷問題並進行遠程維護。整個過程可以通過簡單的圖形用戶界面進行控制和監控。總體而言，SEMITOOL 280S是一種功能強大的光刻系統，能夠在0.5微米的間距範圍內進行精確的聚焦控制，產生高質量的光刻。它配備了一個高度先進的自動化晶片處理單元和一個精密的UV攝像機，用於過程監測和評估。該機還可用於開發後的處理，如酸痛去除、烘烤、退火等。此外，它還有一個模塊化的軟件工具，可以定制以優化特定抗藥性化學的結果。