二手 SEMITOOL 460S #151779 待售

SEMITOOL 460S
製造商
SEMITOOL
模型
460S
ID: 151779
晶圓大小: Up to 5"
Spin rinse dryer, up to 5".
SEMITOOL 460S Photoresist Equipment是一種全自動化學機械平面化(CMP)系統,旨在提供底物的化學/機械加工。它配有精密晶圓載體和自動清洗、預清洗、CMP、後清洗和幹燥模塊。用戶友好的圖形界面允許輕松優化和設置過程。460S裝有一個六袋槍管,用於加工直徑不超過8英寸的基板。CMP頭懸掛有空氣承載墊,允許在晶圓的整個表面均勻分布壓力。晶圓載體通過一個工藝外殼保護其免受化學/基板相互作用的影響,該外殼在每個步驟之間反轉以保持最高的工藝一致性。CMP磁頭設計有可移動的硬質合金塊來調整晶圓與磁頭之間的間隙。SEMITOOL 460S Photoresist Unit具有可調節的機器控制程序,可實現用戶定義的洗滌速度、壓力和CMP頭速度。該單元還具有0.3 psi和0.6 psi之間的固定腔室壓力,從而實現晶片與基板的一致性。該工具能夠測量和監控資產壓力、儲集層體積和泵速等過程數據,提供實時結果。獨特的雙抖動清洗技術確保了最高質量的CMP結果和拋光工藝的均勻性。用戶友好的圖形界面允許輕松的過程規劃和優化。此外,該模型還包括一個集成的自動化控制器、一個PC軟件包以及一個可下載食譜的綜合庫。460S光敏設備旨在通過提供最大生產力和高精度CMP結果來降低運營成本。它是用於半導體、MEMS和基於MEMS的設備制造的理想解決方案。該系統能夠處理各種基材和材料,是許多大批量生產應用的理想選擇。
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