二手 SEMITOOL 470F #178414 待售

SEMITOOL 470F
製造商
SEMITOOL
模型
470F
ID: 178414
Spin rinse dryer, (SRD), up to 6" Single Spin Rinser Dryer on a roll around cart Possible options include: rotors, static eliminator, resistivity monitor and water recirculator "F" model upgrade includes class 10 Poly.
SEMITOOL 470F是由SEMITOOL, Inc.設計的光刻處理設備。該系統用途廣泛,能夠處理各種尺寸的晶片,直徑從200毫米或8英寸到300毫米或12英寸不等。470F是一個多合一的獨立裝置,包括抗蝕站、洗滌站、幹式站、旋轉站和Mo-Lift,將晶圓從機器中取出並放置在盒式磁帶托架中。抗蝕站具有先進的專利技術,可確保對溫度、壓力、流量、旋轉速度和時間等參數進行精確控制和精確監控。該腔室能夠控制高達150°C的溫度和高達600 rpm的自旋速度,使其能夠應用各種光刻膠並以高通量工作。該室還設有一個SEMITOOL超清潔4級洗滌路徑為優秀的光阻和抗渣除去。自旋站兼具旋轉速度和時間控制功能,自旋速度可由200轉調整至600轉,使其具有應用厚度和性質各異的光刻膠的能力。此外,Mod-Lift還提供精確的晶片放置,使晶片能夠快速安全地從刀具中轉移出來。它還配備了額外的安全聯鎖功能,以防止未經授權的訪問。SEMITOOL 470F的設計允許從晶片加載到晶片卸載等簡單可靠的過程設置。它還具有基於Windows的易於使用的圖形用戶界面、專用配方和數據記錄資產,以及允許跟蹤維護歷史記錄的設備管理模型。設備還具有完整的網絡功能,允許遠程訪問和故障排除。總體而言,470F是一種用途極為廣泛、可靠的光刻膠處理系統,易於使用,能夠快速容納各種各樣的晶圓尺寸和光刻膠。SEMITOOL 470F具有先進的技術和直觀的用戶界面,是光刻膠片加工的理想選擇,能夠處理各種不同厚度、層和蝕刻輪廓的晶片。
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