二手 JIPELEC Jetfirst #9182654 待售

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ID: 9182654
晶圓大小: 4"
Rapid Thermal Processor (RTP), 4" Ramp rate: 70C/sec Maximum allowable temp: 1100C Thermocouple and outer edge, 4" Gases: N2, O2, H2/N2 (10% forming gas) Chamber: Vacuum below 1 Torr.
JIPELEC Jetfirst是一款領先的熱處理設備,旨在滿足各種應用的需求。該系統提供晶片、基板和器件的快速熱處理。該設備為用戶提供了先進的技術、極高的精確度和高吞吐量的組合,使本機成為組件快速熱處理的理想選擇。Jetfirst配備了兩個平行的高真空處理室,每個室有五英寸的容量。兩個腔室各有一個獨立的控制面板和多個參數設置,使用戶能夠快速準確地調整過程參數,以滿足特定的過程要求。另外,兩個腔室在每個腔室都有一個專用的烤箱區。JIPELEC Jetfirst還配備了先進的光學工具,配備了先進的光學顯微鏡,能夠為晶圓和基板上的熱過程檢查和表征提供完整的視野。顯微鏡還具有增強分辨率和更精確熱測量的變焦能力。Jetfirst還具有可調節的大氣室,以提高整個晶片和基板的熱均勻性。這種特性在表征晶片和基板上的熱過程時可以提高精度。JIPELEC Jetfirst包含幾個功能,以確保最佳的流程一致性和一致性。該資產擁有獲得專利的自動化模型,允許精確控制工藝參數,並提供可靠的操作環境。此外,Jetfirst還具有幾種隔熱系統,以確保晶片和基板之間的溫度分布均勻。JIPELEC Jetfirst為各種應用程序提供了可靠的熱處理環境以及易於訪問和通用的控制選項。該設備可編程為處理各種任務,如薄膜沈積、快速熱退火和半導體器件制造。而且,Jetfirst能夠並行運行多個進程,從而提高了系統的整體吞吐量。JIPELEC Jetfirst提供的所有功能使其成為晶片、基板和器件高速熱處理的理想選擇。它使得熱條件的技術過程比傳統方法更容易、更快,使這一單元成為各種應用的絕佳選擇。
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