二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9153739 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II
ID: 9153739
晶圓大小: 8"
PVD System, 8" (3) Chambers / TEOS MXP Oxide chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一種在半導體工業中廣泛使用的高性能化學氣相沈積(CVD)反應器。它是一個等離子體增強的CVD腔室,為成長中的先進半導體材料提供了高品質、高性能的環境。該系統由主腔室、基板卡盤、淋浴頭組件和等離子體源組成。P5000主室采用不銹鋼真空室、隔熱襯裏和特殊的耐蝕刻頂層塗層構成。其鋁基板卡盤提供精確的溫度控制和均勻的加熱,以保證高質量的薄膜沈積。腔室配有主動冷卻的圓頂百葉窗組件,可提高性能、溫度均勻性和均勻的基板溫度。噴頭組件由氣體噴射器組成,裝有各種石英噴頭插件以及盒式口罩和金屬網眼。這樣可以精確控制被沈積薄膜的生長速度和組成。淋浴頭組件也兼作等離子體處理晶片的敏感劑。P5000的等離子體源是13.56 MHz的感應耦合射頻發生器。它向腔室提供射頻功率,使半導體材料通電和電離。射頻發生器也可動態調諧,允許精確控制沈積、氧化和蝕刻過程。AMAT P5000 Mark II是一種先進的、最先進的CVD反應器,結合了對薄膜沈積的精確控制、均勻的基板加熱和冷卻以及動態等離子體源調諧,提供卓越的可靠性、高通量和優越的薄膜質量。它是半導體工業的寶貴工具,為研發先進材料提供了一致可靠的平臺。
還沒有評論