二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9411664 待售
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ID: 9411664
晶圓大小: 6"
Poly etcher, 6"
Hard Disk Drive (HDD) SDD Flash hard
Floppy Disk Dive (FDD), 3.5"
Storage elevator: 8-Slots
Cassette indexer: Standard clamp type
(3) Chambers
Process chamber: ABD, PE-TEOS
(3) Baratron gauges: MKS 627A, 20 Torr
(3) Chamber body: One hole chambers, 8"
Lid assembly, 8"
Standard robot blade
(3) ENI OEM 12B RF Generators
(3) Gas panels
NUPRO/FUJIKIN Pneumatic/Shut-off valve
(3) RF Matchers standard
(3) Slit valves standard
(3) Throttle valves, C-plug
(3) Susceptors P-chuck, 6-8"
(3) Process kits, 8"
Lift assembly
O-Ring
(42) Lamps
Mini controller
Remote AC Rack standard type
Remote AC Rack to MF cable, 55 feet
Remote monitor cable, 25 feet
Pump/Heat exchanger cable, 25 feet
AMAT-0 Heat exchanger
Heat exchanger water hose color flex, 55 feet
(3) TEOS Delivery line heaters
(3) TEOS G-Plis
LF 410A-EVD / IV-2410-02H
(2) HORIBA Z512 / GF 100
N2, (5) SLM / O2-s (3) SLM / He 5000 SCCM / C2F6 500 SCCM
(2) LCD Touch / Light pen monitors
(2) Monitor racks.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一種廣泛使用的反應堆，設計用於處理先進半導體材料。該設備由一個工藝室、一個泵、一個加熱器和一個氣體控制系統組成，使其能夠精確地實現廣泛的工藝溫度和氣流。該工藝室由不銹鋼制成，有兩個8英寸的排氣和泵線出口。氣流由三條獨立的氣線控制，可配置用於各種壓力和流量。腔室還配有一個工藝窗口，用於查看樣品和控制晶圓運動。另一方面，加熱器的設計是為了提供高均勻性和準確性，並在過程中保持穩定和精確的溫度。它配有石英烤箱，比傳統的加熱器更精確地維持所需的溫度。泵能提供很高的真空，能準確控制壓力。泵的控制範圍為0.1至10 Torr，具有水冷渦輪分子泵用於低真空操作。氣體控制單元用於控制過程中的氣體。它由質量流量控制器組成，這些控制器控制供應的氣體量，開關和分流氣體的閥門，以及控制壓力的調節器。該機還配備了幾項安全措施，如安全監視器和緊急停止開關。這樣可以確保安全操作,並保護設備和用戶免受任何危險情況的影響。總體而言，AMAT P5000 Mark II是一個可靠的工藝室，能夠進行各種半導體工藝。它能夠準確控制溫度、壓力和流量，並提供安全的工作環境。
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