二手 NOVELLUS CONCEPT One #150904 待售
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已售出
ID: 150904
晶圓大小: 8"
優質的: 1991
CVD System, 8"
Process types:
Undoped silane-base oxide
Silicon nitride
(2) Stages
Transfer system:
One arm robot
Wafer on paddle sensor
Cooling stage
Software version: 4.431
RF Generator:
ENI OEM 50, 13.56 MHz
ENI PL-2HF, 400 kHz
Match network: TRAZAR AMU2B-1 Match box
Pressure control:
TYLAN MDVHX-100B heated throttle valve with temperature controller
TYLAN Throttle valve controller
Independent gas cabinet
Gas configuration:
Mass flow controller: UNIT
Gas types: N2, SiH4, C2F6, O2, NH3
Remote power AC box
Currently warehoused
1991 vintage.
NOVELLUS CONCEPT One是一種先進的、先進的原子層狀沈積(ALD)反應器,專為高批量生產高均勻薄膜而設計。反應堆是先進電子產品商業化制造的有利平臺。它具有高通量腔室和大基板支架。這樣就可以生產各種半導體材料和設備,包括內存設備、彈性體和傳感器。ALD是一種先進的薄膜沈積工藝,用於制造電子元件。ALD工藝用於將原子層材料(一次一層)沈積到基材的地形上。這種控制水平允許在大面積上進行極其精確和均勻的薄膜沈積。ALD非常適合生產薄膜晶體管、內存設備、發光器和微機械執行器。NOVELLUS CONCEPT ONE是一個定制設計的ALD反應堆。它每小時可處理多達100個晶圓,能夠應用特定的薄膜配方。它提供了一致的晶片到晶片厚度控制,高達0.2nm,以及非易失性內存,以便於過程開發。概念一由四個主要部件組成:反應堆頭、反應堆室、計算機控制閥和運輸系統。反應器頭裝有陰極和陽極,用於沈積和控制電流流動。反應堆室是底物所在的位置,包含氣體輸送系統,該系統將反應物註入該室。閥門控制氣體流動,並由計算機監測和調整。最後,運輸系統將底物通過反應堆進行超均勻速度和溫度控制。CONCEPT ONE能夠沈積多種材料,包括金屬、氧化物、氮化物,以及廣泛的半導體材料如光伏材料、CIGS、CIS等先進半導體材料。這使得能夠生產各種先進的電子產品,包括傳感器和半導體器件。最後,NOVELLUS CONCEPT One是一種先進的ALD反應器,設計用於高批量生產的超薄膜和均勻膜。它的特點包括高通量、一致的晶片對晶片厚度控制,以及處理多種材料的能力。這使得各種先進電子元件的商業制造成為可能。
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