二手 ANATECH / TECHNICS HUMMER V #5717 待售

ID: 5717
Manually controlled tabletop sputter system Process: depositing a conductive coating for visualizing SEM samples Sputter deposition process is more uniform and reproducible Yields more adherent films with finer grains than in evaporation systems A bell jar will be installed on the tool Internal pump: Mitsubishi Elec. Super Line, single phase induction motor, type SP-NRF No targets included.
ANATECH/TECHNICS HUMMER V是一種濺射設備,設計用於在平板基板上提供有機和無機材料的均勻層。它具有一個真空室和兩個樣品支架,最多四個源,多個過程氣體,以及廣泛的濺射和沈積參數。ANATECH HUMMER V利用倒磁控管技術(IMT),其中圓柱形線圈向濺射目標傳遞軸對稱磁場,濺射材料收集在磁控管中間。與傳統的直流濺射相比,IMT技術提供了更好的等離子體均勻性。此外,TECHNICS HUMMER V還具有低電流和低電壓操作功能,從而可以更好地控制濺射過程。HUMMER V作為一種直流磁控管濺射系統,與其他濺射技術相比具有許多優點。最值得註意的是,低電流操作允許低應力植入,這可以顯著改善材料對基材的附著力。此外,多氣體輸送裝置提供快速、可重復的過程,每次結果一致。通過利用多種氣體,濺射源能夠提供反應性和非反應性濺射,從而能夠沈積各種不同性質的材料。ANATECH/TECHNICS HUMMER V旨在提供廣泛的操作參數和選項,允許各種應用程序。除了直流濺射機外,ANATECH HUMMER V還具有多離子源,能夠創建植入材料的雙峰和定制輪廓。通過利用多離子源,TECHNICS HUMMER V還可以沈積高貴和非高貴的層,以及復雜的多層結構。該工具旨在支持廣泛的基板,包括矽、金屬和其他材料系統。HUMMER V是任何需要在各種基板上沈積有機和無機材料層的應用的理想選擇。由於其獨特的離子源和低電流操作,ANATECH/TECHNICS HUMMER V可以提供具有改進的附著力和可重復過程的均勻層。憑借其廣泛的操作參數,ANATECH HUMMER V是各種應用的絕佳資產,提供了以一致、均勻的層沈積各種材料的能力。
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