二手 MRC 643 #9004057 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
ID: 9004057
Sputtering system
P/N: 82023-000C
Target size: 5 x 15
80-100 psi Air
60-90 psi Water
(4) GPM
3 kW RF, 10 kW DC
Power supply: 208 V, 100 A, 60 Hz, 3-Phase.
MRC 643是一種高性能物理氣相沈積(PVD)濺射設備,允許用戶以極高的精度將薄膜沈積在多種基板上。643利用高真空系統和濺射基板上的目標材料,生產速率高達10納米/秒,可以提高生產率和效率,同時降低材料成本。其獨特的設計特點是具有6個獨立的傾斜式濺射槍單元,從而提高了沈積過程的靈活性和定制化,使得能夠以極好的均勻性同時沈積不同的材料成為可能。MRC 643包括集成的鎖載室、腔室再循環、自動基板清洗過程、溫度控制環境和完全與CAD/CAM兼容的操作單元等多種功能。該機專為工業用途而設計,包括各種集成功能,以最大限度地提高準確性和可靠性。獨特的冷卻工具有助於延長目標材料的使用壽命並降低維護成本。該資產可以量身定制,以滿足特定的客戶需求,並允許各種沈積速率、目標大小、目標到基材的距離以及不同的目標材料。該模型還被設計為與晶圓、太陽能電池、閃存和形狀復雜的基板等多種基板兼容,使其成為研發和生產應用的理想選擇。643的控制設備EZ-Dep 2旨在通過用戶友好的圖形界面優化沈積過程。這允許用戶設置工藝參數,監控沈積參數,實時調整濺射參數,以實現更高的精度和控制。MRC 643為用戶提供了一種可靠且可重復的方法,可以將薄膜沈積在各種基板上,同時最大限度地提高生產率和成本效率。其獨特的設計、先進的功能和用戶友好的控制系統使其成為工業濺射應用的理想選擇。
還沒有評論