二手 ULVAC MLX-3000N #9053707 待售

ULVAC MLX-3000N是為研發應用而設計的濺射設備。該系統允許沈積多種薄膜材料，包括金屬、絕緣體和半導體。它采用了ULVAC專有的MGP技術，該技術的特點是三個疏散室----一個目標室、一個反應室和一個塗層室----都連接到一個泵上。這種模塊化設計允許廣泛的基板尺寸、形狀和配置。目標室配備ULVAC專利磁控管濺射源技術。濺射源上的9個大磁體與堿鹵化物離子源相結合，使得在幾乎無限源壽命的非真空條件下的最大濺射通過。高度均勻的電離等離子體由離子源在靶室內生成。這提高了材料的使用效率，同時允許在整個基板區域內均勻沈積。反應室是一種高壓反應室，可用於將胺類、烷烴類或氧類等氣體引入濺射過程。它具有先進的光學監測能力，使研究人員能夠評估濺射過程中的薄膜特性。最後,塗層室是MLX-3000N單元的輸出.在這裏，濺射過程產生的金屬膜、塗層或其他納米結構被沈積在基板上。該系統的高材料吞吐量能力，允許大尺寸的基板和高精度的塗層結果。ULVAC MLX-3000N還使用許多傳感器實時監測沈積過程條件。這些傳感器包括壓力表、真空控制器和基板溫度監測器。這些組件為科學家和研究人員提供詳細的反饋信息，並允許快速的過程優化。MLX-3000N是一種先進的濺射機，旨在滿足研究人員和開發人員的需求。它具有高通量、大面積塗層和高精度沈積等多種材料的優點。其模塊化設計和先進的傳感器使其成為高級應用開發的理想選擇。