二手 ULTRATECH 1100 #130601 待售

ULTRATECH 1100是由Mapper Lithography製造的最先進的晶圓步進器。這臺自動照相機能夠在半導體基板上精確蝕刻精度圖樣，其特征尺寸從0.5 μ m到幾納米不等。利用基於Meta 「Ultrafast」液體浸入式光刻技術，1100能夠通過浸入式浸入式投影透鏡投射光線來實現這樣的細節。這種透鏡能夠在廣闊的視野中投射出均勻聚焦的光束。ULTRATECH 1100中的掃描系統設計為遵循笛卡爾路徑，可達到高達2000mm/s的速度，可重復精度± 3 μ m。掃描機還包含動態方面的校正，這確保了投影圖案的準確表示，無論基板大小如何。1100配備了一個大的可重新配置的遮罩板，並提供了兩種成像模式：一種是光掩模模式，另一種是數字模式發生器模式。Photomask模式使用戶能夠將Photomask布局上載到機器上,並且圖像將準確地遵循該設計。在數字模式下，即時成像，允許即時產生復雜的幾何設計。ULTRATECH 1100還支持多種塗層和蝕刻材料,以實現各種基材的精確圖案化。具體來說，它支持SU-8、聚酰亞胺和BCB等光致抗蝕劑以及矽鎢、SiO2和Si3N4等幹蝕刻材料。1100有一個10MP的CMOS相機用於高分辨率成像，允許用戶實時檢查過程結果。相機還可用於進行在線OCR和缺陷檢查。總體而言，ULTRATECH 1100是半導體研究和高產量的理想步進器，其精密成像能力、可重新配置的掩模板、廣泛的塗層和蝕刻材料、快速掃描和動態方面校正。