二手 DNS / DAINIPPON SU-3100 #293627839 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 293627839
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
Wafer cleaning system, 12"
(8) Chambers
(4) Load ports
Powerbox
Densimeter
E-Flow
DVR
Chemical supply: HF, H2SO4, H2O2
Nozzle:
Chemical (Spin 1-8)
Side rinse
E-Flow (Spin 1-8 and front)
Nano spray
Rinse back rinse
UMC Controller
Index R IDA
(2) CR Stages
Spin unit:
Left: 5, 6, 7, 8
Right: 1, 2, 3, 4
IR:
W/F Sensing penetration type: Photo sensor
Arm Y-Axis servo-motor
OARM X, Y-Axis stepping-motor
CR:
W/F Sensing penetration type: Photo sensor
ARM Y,Z AC Servo-motor
Missing:
Hard Disk Drive (HDD)
Fire suppression
DI Resistivity sensor: AS
Flow meter sensor: RK
Power supply: 220 VAC, 60 Hz, 3 Phase
Full Load: 32kVA, 88A, 60 Hz
3 Wires with GND/PE
Breaker rate: 110A
SCCR: 10kA
2007 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3100是利用反應性離子蝕刻（RIE）和化學機械拋光（CMP）技術制造半導體材料制成的產品的濕加工站。濕式工作站可實現精確和可重現的蝕刻和拋光工藝，以獲得表面粗糙度最小的高質量基板。濕式站由具有內部真空設備的耐化學不銹鋼室、離子源、電阻加熱元件、機械晶片載體和一系列工藝氣體組成。該腔室還配備了多個端口插頭，用於連接其他真空系統和工藝部件。該腔室還包括一個載荷鎖，用於將晶片送入和送出腔室，而不會使其暴露於環境大氣壓。離子源用於為過程氣體通電，產生密度和組成可控的等離子體。加熱元件用於控制蝕刻過程中的壓力和溫度，而機械晶片載體則確保晶片在整個過程中牢固地固定到位。腔室還設有用於排出工藝氣體的高真空泵，以及用於排出蝕刻反應副產物的排氣口。為了保持安全、清潔的工作環境，濕站還配備了空氣擦洗系統和自動輸氮裝置。空氣磨砂機從進入的空氣中清除顆粒物和其他汙染物，而氮氣輸送工具在室內保持一致的過程氣氛。濕站提供了高度精確的蝕刻能力和先進的工藝監控，使產品的生產具有極高的精確度和可重復性。它能夠加工不同的材料類型，如金屬、氧化物、聚合物和化合物。此外,它采用模塊化體系結構進行設計,可輕松升級以滿足客戶需求。
還沒有評論