二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9131184 待售

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TEL / TOKYO ELECTRON Expedius
已售出
ID: 9131184
晶圓大小: 12"
Batch wafer processing system, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一個用於製造產品的濕式站。它是一種多功能設備,旨在實現高精度、高效的制造和工藝控制。它結合了電子控制(EC)技術和各種各樣的等離子體源,所有這些都能夠實現高精度和高效的過程控制。TEL Expedius濕站用於跨線前端(FEOL)和線後端(BEOL)處理的半導體過程中的各種應用。它可以容納晶圓清洗、濕蝕刻、化學機械拋光(CMP)、電化學沈積(ECD)等各種工藝。歐共體技術可以在更大的區域內實現工藝條件的均勻性。這是通過提供各種電流密度設置來實現的,這些設置可以根據應用程序的類型進行更改。晶片可以暴露於各種等離子體源中,從而優化沈積或蝕刻速率以達到峰值工藝性能。此外,它還具有有助於防止因接觸危險化學品而對零件造成汙染的安全特性。在控制方面,設計了TOKYO ELECTRON Expedius系統以提供易用性。其直觀的操作單元使操作員能夠快速、輕松地設置和控制過程條件。它為控制溫度、電流和電壓提供了非常精確的參數。它還具有耐用的人機界面,並有可靠的算法作為後盾,能夠高效運行。Expedius的占地面積很小,非常適合在清潔環境中安裝。此外,即使在存在腐蝕性化學品的情況下,其堅固的設計也能持續運行。它還為各種應用程序提供精確的過程控制。例如,同一臺機器可以用於不同材料的沈積或蝕刻,如氧化物、聚矽和金屬。總而言之,TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是專門為各種工藝應用而設計的高性能、高效的濕式站。其高度精確的EC技術和等離子體源提供了很好的過程控制,而其用戶友好的界面使操作變得簡單高效。即使在存在腐蝕性化學品的情況下,它也是一種可靠的解決方案,非常適合在清潔環境中進行集成。
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