二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #293666975 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Expedius
ID: 293666975
Wet bench.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一個設計用於半導體加工應用的濕式站。它是一種獨一無二的先進單片加工設備,能夠處理批量和連續過程。該系統設計用於處理長達六英寸的晶片,與300和200毫米晶片兼容。TEL Expedius濕式站由兩個獨立的、溫度控制的濕浴組成,用於通過在浴池之間轉移晶圓來執行一系列處理步驟。浴池是自動化的,可以編程為根據用戶的要求進行一系列的處理步驟。浴池可加熱至200 °C,兩者均配有溫度測量系統,確保整個過程溫度一致。除濕浴外,濕站還包括一個內置的化學處理單元,負責化學儲存和分配。這有助於降低材料成本和提高生產率。該站還能夠處理危險化學品和非危險化學品,因此適合各種工藝應用。TOKYO ELECTRON Expedius旨在使晶圓加工過程自動化,提供令人印象深刻的質量控制水平。安裝在濕式工作站上的高分辨率攝像機提供正在處理的晶片的實時圖像。這臺機器能夠檢測過程中可能發生的任何異常,並向用戶發出警報,同時提供監測過程有效性的手段。它還包括重要的安全特性,例如防止汙染周圍環境或工序室的防溢漏工具。資產還包括先進的真空系統,以確保加工過程中的質量一致。真空模型保證了蝕刻過程中的均勻性,可以根據工藝要求提供不同程度的真空。此外,設備的內置負載鎖定系統有助於將晶圓放置錯誤導致的過程故障降至最低。最後,Expedius濕站的設計考慮了可用性和可維護性.它的用戶界面非常直觀,易於操作,其模塊化設計在必要時便於維護和維修。總體而言,TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一個先進的濕式站,設計用於各種半導體應用中的有效和可靠的晶圓處理。它提供了一個自動化和溫度控制的處理環境,具有先進的圖像識別和真空系統,以改進對過程的控制。此外,它的用戶界面和模塊化設計使它易於操作和維護。因此,TEL Expedius濕站是任何半導體加工應用的絕佳選擇。
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