二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353489 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Expedius
ID: 9353489
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
Wet bench, 12" Process: MRCA Pre-clean Load port Transfer module SD2 SC1 (M/S) DHF Power box O3 Generator Fire extinguisher (3) MIKRO Sonic (2) U02800PMCA U02400PMAM Light tower Fire extinguisher light Alarm rotating light Yellow alarm light Exhaust / Drain box (2) Exhaust assy (4) Clear plastic cover (Middle) (8) Plastic cover (Top) Water pipe assy Robot track assy (2) Auto L type Foot stool assy KOMATSU GRS-612 KOMATSU AIC-7-12-T1 (2) Air driven pump controllers (6) Step frames (5) White covers Top frame HORIBA Assy Load / Unload module: Transfer module: Tank SD2 (Dryer): Guide material: PCTFE Process bath material: PTFE Cold DIW: 40-60 l/min POU (M/S): Guide material: QUARTZ Process bath material: QUARTZ Temperature: 70°C Proportion: HCL:H2O, 1:500 / 1:1000 Megasonic: SSDM 2800 W Cold DIW: 40-60 L/Min Hot DIW: 40-60 L / Min Heater CEH-480 Concentration monitor SC1 (M/S): Guide material: QUARTZ Process bath material: PTFE Temperature: 55°C Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O, 2:3:100 Megasonic: SSDM 2800 W FF-20BT1 Pump AIH-124QS CS Heater with WJ Filter: QCCZATM01K, 0.05 µm HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor QDR: Process bath material: QUARTZ Cold CIW: 40-60 l/min DHF: Guide material: PCTFE Process bath material: PTFE Cold CIW: 40-60 l/min Mixing ratio: DHF:H2O, 1:25 FF-20BT1 Pump COOLNICS Heater Filter: IHIG01M01K, 0.2 µm CM-210-05 Concentration monitor 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一個為了滿足化學濕處理應用的要求而設計的濕製程站。它是一種高度自動化的設備,結合了先進的晶圓傳輸機制和可定制的模塊系統。TEL Expedius適用於範圍廣泛的過程模塊,從常規的批量浸入式單元到單晶片機,讓客戶能夠最大限度地優化他們的過程。TOKYO ELECTRON Expedius工具更具創新性的一個特點是其先進的晶圓傳遞模塊。這項資產的設計目的是在多個腔室之間快速高效地傳輸晶片,從而使晶片在更短的時間內得到處理。該模塊在處理晶片時還提供了更大的精度和控制。此外,Expedius模型還利用機械臂精確定位晶片,最大限度地減少機械損傷的可能性。TEL/TOKYO ELECTRON Expedius的模塊化設備使得自訂系統以最佳地滿足每位客戶的需求成為可能。可以在TEL Expedius單元中使用的模塊包括用於浸塗晶片的浸洗模塊、用於表面處理的表面活性劑浸入模塊、用於蝕刻的濕蝕刻模塊和光刻塗層模塊。TOKYO ELECTRON Expedius機器還包括一個集成的軟件包,允許用戶通過定制機械臂的編程來最大化他們的過程效率。該軟件還可用於生成有關流程結果的詳細報告並提供對流程的實時監控。該裝置還具有多種安全特性,使其成為最安全可靠的濕工藝系統之一。它配有防輻射護罩、高效氣體幕,以及在違反任何安全參數時停止機械的集成工具。Expedius資產效率高,為濕加工提供可靠安全的環境。它是現有最先進和可定制的系統之一,能夠優化化學濕清洗過程並產生所需的結果。
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