二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9376105 待售
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ID: 9376105
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Wet bench, 12"
Process: MRCA Pre-clean
Load / Unload module
Transfer module
Tank SD2 (Dryer)
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
M/S POU:
Guide material: Quartz
Process bath material: Quartz
Temperature: 70°C
Proportion: HCL: H2O, 1:500 / 1:1000
Mega sonic: SSDM 2800W
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
CEH-480 Concentration monitor
O3 Water generator
SC1 (M/S):
Guide material: Quartz
Process bath material: PTFE
Temperature: 55°C
Mixing ratio: NH3OH: H2O2:H2O, 2:3:100
Mega sonic: DM 4800W
FF-20BT1 Pump
CS Heater
QCCZATM0IK Filter, 0.05 µm
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
QDR:
Guide material: PCTFE
Process bath material: Quartz
Cold CIW: 40-60 L/Min
DHF:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Mixing ratio: DHF: H2O, 1:25
FF-20BT1 Pump
COOLNICS Heater
IHIG01M01K Filter, 0.2 µm
CM-210-05 Concentration monitor
2006 vintage.
TEL（TOKYO ELECTRON）TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是為半導體製造工藝而設計的濕式車站。該平臺專為執行蝕刻和沈積過程而設計，需要精確和可重復的結果，如濺射、熱氧化、化學氣相沈積（CVD）和反應性離子蝕刻（RIE）。平臺設有原位蝕刻沈積設備，可實現精確的層級控制和更快的周轉時間。該平臺非常可靠,關鍵組件經過嚴格測試,確保最大程度的工藝性能和可靠性。TEL Expedius平臺旨在提供最大限度的過程控制和可重復性。該平臺采用大型真空基體，為濺射、CVD、RIET等工藝提供精確的氣體分布。此外，高能蝕刻和沈積系統還配備了獨特的氣體註入裝置，使用戶能夠進行高度精密的蝕刻和沈積過程。這種氣體噴射機還使用戶能夠在基板上沈積任意形狀的所需材料。使用TOKYO ELECTRON Expedius平臺的優點包括對於濺射和異質外延等復雜過程起始原料的良好附著力，以及CVD和RIET的出色熱均勻性。該工具還配備了先進的溫度控制元件，用於精確的溫度控制。此外，平臺的優越基板支架和電阻式基板加熱確保基板的重復和準確加熱。Expedius平臺高度可定制,使用戶能夠選擇多種資產選項。該平臺設計為可升級，允許用戶隨著需求和流程的發展而構建更復雜的系統。此外,該平臺還配備了用戶友好的軟件包,使用戶能夠快速輕松地自定義流程並創建新配方。總體而言，TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一個先進的濕式站，為精密的蝕刻和沈積過程提供了一個通用可靠的平臺。它的大型真空基體和能量噴射器提供了很好的過程控制，而其溫度控制組件保證了可重復性和準確性。該平臺具有高度可定制和可升級的特點,使其成為尋求高級蝕刻和沈積功能的用戶的絕佳選擇。
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