二手 CANON MPA 3000W #9195378 待售

CANON MPA 3000W Mask Aligner是一種高精度、全自動的晶圓級陣列半導體制造設備。它能夠成像小至1微米的特征大小，非常適合生產高度復雜的微處理器、顯示面板和其他設備。該系統獨特的光學設計包括一個專門的光學透鏡，它允許最大的照明效率和使細特征計量成為可能。CANON MPA-3000 W異常穩定，在10至30°C的熱工作範圍內工作，最大吞吐量為每小時4,000晶圓。為了確保均勻曝光並減少後滑動和耀斑，MPA 3000W的關鍵部件被封閉在其N2-enclosed成像室內。接近和聚焦檢測傳感器在曝光期間監視掩模和晶片之間的間隙,從而實現精確的對準。其離子泵真空室通過在光掩模和晶圓之間的區域產生真空，進一步提高了MPA-3000 W的精度。這種真空防止了晶片表面上不希望的吸氧，確保了晶片上的均勻曝光。CANON MPA 3000W通過使用自動校準機構優化掩模對準裝置,可以補償曝光期間的幾何變形和溫度變化。這有助於減少工藝變化並提高工藝穩定性。Wafer Changer還有助於減少後滑動和站立，其自動化的Wafer Transport Mechanism確保了晶圓的平穩和安全處理。此外,CANON MPA-3000 W的高級X射線光源確保光束大小一致,允許均勻的曝光參數。為了確保可重復和可靠的結果,MPA 3000W采用了一些高級功能。其單發壓縮和均勻曝光參數技術有助於最小化駐波和陰影效應，而其先進的曝光源則提供了整個晶圓的均勻劑量分布。它的故障檢測模式還監視曝光過程,從而能夠快速高效地檢測可能出現的任何問題。MPA-3000 W是制造高精度微處理器、顯示面板和其他設備的理想機器。憑借其先進的光學和觸發技術,佳能MPA 3000W確保了可重復的結果和一致的高吞吐量。