二手 CANON PLA 501 #9198592 待售

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ID: 9198592
晶圓大小: 3"
Mask aligner, 3".
CANON PLA 501是用於生產微電子器件的光刻工藝的精密掩模對準器。這種掩模對準器具有快速的掃描速率和高精度,允許對集成電路晶片進行精確的光刻。它的曝光波長為248nm,可以很容易地為其他波長配置。光學設備設計為提供穩定的聚焦和成像性能。佳能PLA-501的居住面積為4英寸,分辨率為0.2微米。對準和光刻精度保持在0.1微米。掃描模式包括單場、長場和固定場掃描。該對齊器可通過專利模式匹配系統進行優化。曝光頭可實現步進控制,並提供卓越的性能。它具有高達每分鐘50個周期的高速處理能力,空中圖像SNR優於40 dB的高質量處理。可選的基板平移階段單元允許在不同的曝光之間快速變化,從而實現高精度的高吞吐量。口罩對準器配有溫控機,以穩定溫度長時間曝光。精確的溫度和濕度控制可以提高曝光率,並始終保持最高的精度。PLA 501還提供液晶、LED等FPD(平板顯示器)系統,比其他顯示技術更高效、重量更輕。這種對準工具還能夠減少高反射性表面的反射和/或氣泡引起的失真。驅動掩碼對齊器PLA-501強大軟件提供了對資產設置和參數的用戶友好控制。此外,該車型還配備了廣泛的先進功能,以滿足大批量生產的要求。總體而言,CANON PLA 501是一款可靠的掩碼對齊器,可靠且易於使用。具有高精度生產高質量集成電路的能力.這種先進的光刻工具是生產顯示面板、半導體和微電子器件的理想選擇。
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