二手 CANON PLA 501 F #9198627 待售

CANON PLA 501 F是半導體工業中用於光刻應用的最先進的掩模對齊器。它利用步進和重復成像以及精密顯微技術來提供亞微米分辨率。501F的慢動作工作臺使用戶能夠在半導體晶片之上精確放置和對齊光掩模。它配備了6軸運動控制系統，確保最佳的掃描精度和可重復性。此外,高速快門投影儀還可以快速準確地放置光掩模。501F的曝光範圍很廣（因此支持多種源晶片和光掩模）。它還支持步長和重復成像（帶全場圖像）以及可變長度串行成像（用於較小的高密度場圖像）。掩模對準器還能夠進行高精度的網狀對準，以精確定位光掩模和晶片。CANON PLA-501F內置了多種安全功能，包括自動真空互鎖，確保操作員在掩模對準過程中安全。此外,設備還配備了多個緊急開關,以便操作員在發生緊急情況時關閉系統電源。該501F還具有一個用戶友好界面,允許創建和修改掩碼布局文件。直觀的軟件程序允許操作員快速輕松地定義自定義掩碼參數，如字段大小、曝光級別和焦點範圍。這有助於優化性能並提高工作效率。總體而言,PLA 501F是一種最先進的掩模對齊器,它提供了多種功能,使其成為半導體行業的理想選擇。它提供卓越的掃描精度和可重復性,以及各種安全功能。直觀的軟件程序簡化了操作,有助於提高生產效率。歸根結底,501F為光刻應用提供了優化的解決方案。