二手 RIBER 49 #9193092 待售

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製造商
RIBER
模型
49
ID: 9193092
晶圓大小: 10"
優質的: 2001
MBE System, 10" (10) Ports Recovery module: Hg Temperature range: 0-700°C No cracker Main chamber: (2) CT-10 Cryopumps With LN2 baffles Large ion pump Wafer manipulator RHEED: Gun Screen Transfer / Loadlocks: Transfer chamber with outgas stage (2) Loadlocks with cryopumps Sources: (3) Installed (2) Additional (CdTe, Te, In, and Hg) 2001 vintage.
分子束外延(MBE)是真空沈積過程的一種,用於制造具有精確層材料的薄膜。RIBER 49是一種MBE設備,用於沈積半導體元素、合金和化合物,如砷化氙、磷化銨和氮化​​的,用於光電元件。49使用閉腔源,容納兩個電子束蒸發器和三個不同的積液電池的出口。兩個電子束源用於沈積具有高氣壓的金屬和其他材料,三個積液池各用於單個成分的沈積。該系統還包括離子源、石英晶體厚度監測器、樣品加熱級和殘留氣體監測器。此外,RIBER 49還可以連接到光譜儀,以確定被沈積物質的組成。49使用磁助光束單元將材料指向基板表面。磁鐵用於減少光束的擴散,讓使用者控制沈積膜的組成和厚度。材料加熱蒸發,基板加熱,減少沈積膜中的缺陷數量。一旦材料沈積到基板上,層的厚度由石英晶體厚度監測器控制。這臺儀器使用石英晶體監測光束下方基板的振蕩,調節沈積在基板上的材料量。基板也可以利用樣品加熱階段來操縱,這使得基板可以在腔室中再次傾斜、移動和傾斜,以便對材料進行精確沈積。一旦物料妥善沈積,殘留氣體監測儀可用於檢查沈積室中外來顆粒的汙染程度。這樣可確保只沈積所需的層,並從最終產品中消除任何缺陷。RIBER 49是一臺先進的精密MBE機器,主要用於制造半導體元件以及具有精密層的光電器件。它可以方便地沈積金屬和非金屬材料,能夠量化材料成分和層厚,是生產優質光電零件的理想選擇。
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