二手 AIXTRON 2400 G1 #9191892 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9191892
優質的: 1991
MOCVD Reactor
AlGaAs System
Main chamber
LEYBOLD D65 Pump
15" x 2" and 8" x 3"
Configuration:
(2) Ga lines
(2) In
(2) Al
(1) Mg
(1) Zn
(1) Spare
(2) As
(1) Ph
(1) Si2H6
(1) HCl
Temperature range: Up to 850°C
Used for AlInGaP LEDs
Gases used: Arsine, Phosphine, DiSi2H6, HCL
Windows based operating system: Upgraded from OS9
Usage: ~4,000 Hours
Installed with N2 and H2 disconnected
Purged with N2 before shut down
(3) / (4) Lauda baths
1991 vintage.
來自AIXTRON SE的AIXTRON 2400 G1反應堆是為可伸縮生產而設計的半導體沈積設備。它是一種先進的低壓CVD系統,提供卓越的過程控制和靈活性。該反應堆提供了廣泛的能力，包括氧化物、氮化物和多晶矽沈積，以及熱氧化物和其他矽基工藝。其自動化程度和配置能力使其成為薄膜沈積的理想選擇。2400 G1旨在提供統一和可重復的工藝質量。它是一個全自動單元，連接到各種氣源，以實現完整的過程靈活性。該機還配備了溫度剖析、氣流測量、沈積剖析等先進診斷，以實現最大程度的工藝控制。反應堆采用模塊化設計，由六個水平反應室組成，每個室內有三個反應堆。反應室的中心壁由不銹鋼制成，而外墻則由陶瓷制成。所有反應堆都連接到運輸軌道，使它們能夠在連續的腔室之間移動。此功能可確保整個工具的沈積速率一致。AIXTRON 2400 G1的最高溫度範圍為90°C至1000 °C，工藝壓力為5 mBarg。它配有放置在多種位置的氣體噴射器，以利於最佳氣體分配。此外，反應堆允許摻入多種氣體，包括專門為此設計的燃氣箱和排氣管。2400 G1具有廣泛的功能,是一種可靠且高效的資產,可提供高水平的控制和可重復性。該模型適用於廣泛的薄膜沈積工藝，旨在滿足最新的半導體生產要求。
還沒有評論