二手 AIXTRON 2800 G4 HT #9195750 待售
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已售出
ID: 9195750
優質的: 2007
MOCVD System
42"x 2", (6) Satellite
Loaded for each run: 7"x 2" per satellite
Gas lines: 3 NH3, 1 SiH4
LAUDA: RM 25 S/G, RM 6 S/K
EPISON4 Installed
MO Lines:
TMG
TMA
(2) Cp2Mg
(2) Indium
(2) TEG
MO Materials:
TMG
TMA
Mg
In
TEG
SiH4
NH3
Measure the reflectance & temperature: EPITUNE III
Process pump: EBARA A25
WKL230 Chiller included
External scrubber
HORIBA STEC
HITEC
Gas: GaN
2007 vintage.
AIXTRON 2800 G4 HT是為快速高效生產高性能光電元件和器件而設計的反應性沈積工具。它是一種基於4英寸或8英寸橋架結構的緊湊、3軸均勻橫向(HT)設備,具有32個crucibles,4個磁場,4個接近線圈。這種精密的沈積系統在所有前體之間提供了極好的均勻性和穩定性,使其成為生產高質量樣品的理想工具。AIXTRON 2800G4 HT的先進設計使其非常適合於薄層的沈積。該裝置在沈積過程中能夠達到極低厚度的薄膜層,並且可以沈積幾十納米(nm)以下的薄層。這種薄膜沈積工藝還能夠形成具有強層對層界面特性的單層和多層異質結構。2800 G4 HT使用的先進計算機控制系統能夠同時控制多達32個源,並提供高達1300°C的溫度,分辨率為0.1K。這有助於確保對沈積過程的高精度控制和準確性。機載軟件還包括一系列高級程序,這些程序能夠模擬和優化沈積過程,並有助於監控進度和優化配置。該機的設計因包含在反應堆內的磁場而進一步增強。這種自動調節磁場有助於防止任何表面汙染,並增強對腔內顆粒分布的控制。通過提供均勻加熱和冷卻基板,鄰近線圈還減少了總沈積時間,並最大程度地提高了基板的吞吐量。總體而言,2800G4 HT是一種通用的電阻沈積工具,能夠提供高精度的光電元件和器件。AIXTRON 2800 G4HT結合先進的設計特點、計算機控制和出色的層對層均勻性,是高效、均勻沈積工藝的理想工具。
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