二手 ASML PAS 2500 / 40 #9198547 待售

ASML PAS 2500/40是一種先進的光刻設備，用於半導體制造工藝。該系統以深紫外光刻為基礎，為130納米芯片制造工藝設計，是低功耗、高性能集成電路的理想選擇。該單元使用單個大面積掃描儀在晶片上暴露一個光阻（PR）層，單步產生微結構。步進器的成像光學器件包括對準機、高數值光圈（NA）鏡頭、高靈敏度照明工具和雙面成像鏡頭。這種組合可以精確控制圖像的放置和均勻性。此外,資產還具有獨特的叠加識別模型（ORS）,可實現高對齊精度,而無需手動裁剪或掃描。ASML PAS 2500/40的核心是利用三軸級以亞納米級的增量移動,從而實現了光刻對準的最高精度。這項最先進的技術結合了三個線性電動機級-X、Y和Theta（角）-來控制晶圓的精確對準,從而形成精確對齊的模具模式。PAS 2500/40還配備了一個綜合大氣控制（AC）設備，在步進室內保持精確和清潔的環境。這種受控環境有助於提高成像性能、延長模具壽命並提高設備的均勻性和吞吐量。該系統還提供精確的光學覆蓋、閉環對準和過程控制能力，以及卓越的場均勻性。PAS 2500/40是一種先進的、用戶友好的光刻設備,設計用於130 nm芯片制造過程。該機提供卓越的成像性能、精確的光學叠加能力、延長的模具壽命和高精度的運動控制。結合了高NA鏡頭、高靈敏度照明工具和大氣控制資產等先進技術，ASML PAS 2500/40提供了無與倫比的精度和精確度。