二手 KOKUSAI Vertron III #135994 待售

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ID: 135994
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
Vertical diffusion furnace / LPCVD / Poly CVD furnace, 8" Process applications: Dry-Ox, Wet-Ox, NO(N2O)-Anneal, Well Diffusion, N2(Ar, H2)-Anneal, PH3-Anneal, Doped/Undoped-Poly-Si, Doped/Undoped-SiGe-Poly, Si3N4, TEOS, HTO Accommodates: 5 wafers simultaneously Automatic filler dummy wafer supply by wafer detection mechanism SEMI standard compliant I/O stage Supports SMIF interface GUI tube controller (CX3000 series) SECS / GEM compatibility 1999 vintage.
KOKUSAI Vertron III是用於半導體材料生長和熱處理的擴散爐及相關配件。Vertron III由KOKUSAI Electric制造,在研發和生產應用中的性能和可靠性而聞名。KOKUSAI Vertron III是一種單晶圓爐,能夠擴散300°C至1100°C的溫度。該設備的核心是石英頁巖,它裝有一個自動石墨敏感器,能夠安裝直徑不超過8英寸的基板。使用長壽命鹵素燈照亮集成相機,用於監測工藝均勻性,可針對不同尺寸的基板進行調節。石墨和SiC加熱線圈用於在腔內提供必要的加熱和冷卻速率。Vertron III有一個直觀的控制器接口,包含一系列強大的操作和顯示功能。系統包括可調節的氣流控制以及手動泵控制等功能,允許用戶定制流程以滿足其確切的規格要求。此外,還可以輕松生成多達100個步驟的流程報告,從而全面概述每個流程運行情況。所包含的軟件旨在監測和控制多個參數,如溫度和爐壓,以確保過程的可重復性。用戶還可以配置各種流程配方,以自動執行流程並將其存儲以備將來使用。安全功能也包括在內,如過度溫度保護、強制氣體關閉和真空泵,如果腔室內的壓力超過指定的水平,它們會自動關閉。為確保質量和長期性能,KOKUSAI Vertron III配備了高壓鼓風機,有助於減少部件上的氧化,並配備了有助於防止過熱的水冷裝置。爐子和配件由AI控制的自動診斷機器作為後盾,旨在識別任何維護問題,並在需要維護時向用戶發出警報。還可以進行其他升級,以增加處理步驟的數量、提高工具的準確性並縮短維護時間。總體而言,KOKUSAI Electric的Vertron III是在半導體生產和研發應用中需要可靠性和性能的絕佳選擇。KOKUSAI Vertron III具有廣泛的處理溫度和設置、直觀的用戶界面以及全面的工藝和安全功能,是滿足任何擴散爐需求的理想解決方案。
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