二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9090494 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Formula是一種在半導體器件制造過程中用於蝕刻半導體晶片的蝕刻器/灰化器。它是一種物理氣相沈積（PVD）蝕刻器，使用反應性離子蝕刻（RIE）從目標基板上去除材料。它能夠蝕刻高長寬比特征,而且輪廓範圍非常狹窄。通常,它用於蝕刻地溝、凹陷的接觸通風孔等特征,這些特征可用於MEMS和3D集成電路的生產。TEL公式蝕刻器使用感應耦合等離子體（ICP）源產生蝕刻所必需的反應性物質。ICP源是先進的Class-IIC清潔室設備的一部分，該設備配備了三重Gas™反應堆和高性能真空系統。這樣可以將表面清潔和蝕刻到極低水平的雜質,而不會汙染表面。TOKYO ELECTRON Formula蝕刻器利用高頻射頻功率在等離子體過程腔中產生均勻的等離子體。該等離子體隨後被用於維持高離子通量並定向到底物。這使得即使是非常薄的特征的蝕刻具有非常低的特征大小和長寬比的高離子產率。配方蝕刻器還配備了兩個額外的蝕刻物種來源。這其中包括了氙氣和氧氣ICP源。氙ICP用於通過小於70 µm的孔和溝槽開口，以及對稱帶狀線和對齊層的孔進行蝕刻。氧ICP由於具有反應性的離子蝕刻過程，因此能夠以非常低的長寬比蝕刻保形結構。在工藝控制方面，TEL/TOKYO ELECTRON Formula蝕刻器提供了一系列選項。這包括一個帶有嵌入式計算機、高速數據記錄器和熱監測機的精密控制單元。軟件包包括針對不同應用程序的各種預設和用戶定義的蝕刻配方。TEL Formula是一種先進的蝕刻器，能夠蝕刻具有高長寬比和重復性的微結構。其集成組件允許對各種應用進行非常高精度的蝕刻,同時消除蝕刻過程中表面的汙染。這使得它成為各種設備制造過程的理想選擇。