二手 CYMER ELS 6400 #9224613 待售

CYMER ELS 6400是一種設計用於半導體和微電子制造應用的高能準分子激光系統。它以單一波長產生紫外線，通常為193nm。激光系統由一個諧振器組成，它是一個包含激光介質和輸出耦合器鏡的抽氣室。激光介質通常是稀有氣體和鹵素化合物的混合物，如氯化氙（XeCl）。這種混合物被一系列電脈沖激發，導致分子釋放光子。光子通過受激發射被放大，進入諧振器。在諧振器內部，光子在兩個反射鏡之間來回反彈，或輸出耦合器和總反射鏡。光子最終到達輸出耦合器鏡，這使得它們能夠離開鏡頭。一旦離開諧振器，光子被聚焦成單個光束。激光能夠產生高能脈沖，通常高達300焦耳，脈沖寬度為7至10納秒。某些版本的CYMER ELS-6400還可以同時產生多個脈沖，用於快速並行處理。ELS 6400產生的光束具有很高的相幹性，用於光刻、燒蝕和其他激光處理應用。它也被用於醫療和美容應用，如皮膚重鋪和眼科手術。ELS-6400設計為節能，比傳統的準分子激光器發射的排放量少。其低維護和可靠的性能使其成為許多行業中光刻和燒蝕應用的熱門選擇。