二手 BSL / BETA SQUARED LITHOGRAPHY PE 700 #9157841 待售

BSL/BETA SQUARED LITHOGRAPHY PE 700是為光刻應用而設計的最先進的掩模對齊器。它為半導體器件上的高分辨率特征設計提供了高性能光刻解決方案。該設備非常適合半導體器件的制造、精細的圖案和先進的包裝。BSL PE 700蒙版對齊器是一種高精度、具有緊湊設計的蒙版對齊器。利用極紫外光刻技術，為細線圖案提供了先進的曝光系統。此單元能夠產生尺寸低至30 nm的關鍵特性,高分辨率輸出為18 µm。它也有大約每小時500晶圓的高吞吐量。該機配備了高精度、機動化的5軸級，提供了出色的對準精度和可重復性。此外，該級能夠對多種晶圓尺寸和各種基材進行批量對準。晶片可以牢固地固定,而不會變形或變形.該工具還采用了自動化軟件驅動的光刻工藝，並提供了關鍵級別的高分辨率圖像。它允許用戶開發從低到高復雜度的各種光掩碼。然後將光掩模安裝並高精度地暴露在設備上,以產生所需的圖樣。對準精度加上高分辨率，使資產成為高精度可靠的光刻應用的理想選擇。BETA SQUARED LITHOGRAPHY PE 700面膜對準器還包括曝光後烘烤模型。這樣可以確保以一致的方式正確烘烤圖樣。它還有一個自動化設備，用於測量最終結果並提供反饋，以提高下一次接觸的對齊度和準確性。這使得優化結果和保持一致的產量變得容易。綜上所述，PE 700是一種高分辨率、遮罩對準器，設計用於高端光刻應用和半導體器件制造。它為半導體器件上的高分辨率特征設計提供了高效、精確的光刻解決方案。該系統能夠對小至30 nm的特性進行陣列化,每小時500晶圓的吞吐量令人印象深刻。自動化軟件驅動光刻裝置和曝光後烘焙機使其成為精確可靠的光刻結果的理想選擇。