二手 AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G2 #9160447 待售

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AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G2
已售出
ID: 9160447
晶圓大小: 12"
優質的: 2002
Defect review system, 12" Tool model: DRSEM G2 Loading configuration: TDK TAS300 Loadport BROOKS Robot Beam source: SE-Gun tip Resolution: 4nm (1 keV at tilt 0°) Column vacuum: < 5.0E-10 torr Throughput: 11 Wafer/hr SEM Accelerating voltage: 600 V - 15 kV Magnification: 500x - 200000x Multi perspective SEM imaging Gun life time: >1 year Optical microscope: 2.5x / 20x / 100x Tilt: 0°, 15°, 45° Image format: TIFF Function: Optical microscope Automatic defect review Automatic defect classification Column tilt 45° SDD EDX Standard type Component: Main unit Operator console EPDU UPS FFU Isolation block EDX Compressor System power rating: 208 VAC, 3-Phase 2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2是一個最先進的掩模和晶圓檢驗系統,旨在對缺陷分析、產量和工藝優化、光掩模修復、掩模配準和對準等領域進行一整套關鍵的國際標準測試。該產品采用強大的高頻電子束(E-Beam)工具,用於對掩模特性進行快速準確的評估。它還具有自動特征識別(AFR)模塊,用於自動檢測電子束產生的圖像中的模式和缺陷。AMAT SemVision G2提供高分辨率晶片和掩模的二維成像,並提供成像和E-Beam的直接集成。這種高性能系統允許多級垂直和橫向掃描控制,並提供微調算法來監視關鍵掩碼參數。它與Allen-Bradley支持面向過程編程的Logix 5000平臺集成在一起,允許在生產環境中輕松集成。APPLICED MATERIALS SemVision G2具有多種蒙版優化工具:Image Match,用於識別蒙版圖像中的相似圖樣;Auto-Align and Compare,用於掩碼配準和對齊;以及各種為改善表面和結構特性而專門設計的引線框架增強算法。該產品還包括先進的E-Beam合成軟件,可提高性能和準確性。SemVision G2提供獨特的分層感知校準功能,有助於優化舞臺運動。該產品還提供自動本地像素調整,從而減少了手動調整的需要,並消除了可能出現的錯誤。它允許智能錯誤識別,並支持最新的缺陷分類。AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2提供高效晶圓檢查,並提供全面的計量能力。它與各種工藝缺陷兼容,包括化學機械平面化(CMP)缺陷、隔離顆粒、亞微米顆粒和化學機械拋光(CMP)工藝均勻性。產品可以處理電介質,包括Si,以及TaN、Ta2O5和HfO2層。AMAT SemVision G2提供了多種工具,可幫助滿足任何高端晶圓檢查應用程序的需要。該產品非常適合任何需要快速、準確、高性能結果的環境。它提供了對MISRA-C++編碼標準的全面支持,並且可以配置為符合行業安全標準。
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