二手 KLA / TENCOR EFEM #9276609 待售

KLA/TENCOR EFEM是一種具有全場缺陷檢測能力的掩模和晶片檢測設備。該系統集成了獨特的光學設計、堅固的硬件設計和先進的圖像處理，在質量保證檢測方面提供了卓越的準確性和可重復性。該單元利用KLA專利的Multi-Scan增強激光束成像和先進的光學成像技術，揭示了詳細的表面信息和亞微米缺陷。高精度光學硬件可確保檢測缺陷和缺陷,並對其進行詳細的表征。集成的磨料濾光技術消除了環境光造成的圖像偽影,從而實現了每個掩模和晶片的最佳成像。該機還具有高分辨率相機頭、高精度變焦光學、頂級自動對焦工具以及提供無與倫比的性能和分析的強大圖像處理算法。此外，該資產獲得專利的緊湊型KLA EFEM技術提供了一個綜合集成的檢測平臺，包括模式識別和掩碼生成、快速現場點檢測和校正、缺陷檢測和分類、晶片與模具比較，以及特殊的邊緣識別。同時，利用自學習親和力數據匹配和模式分析算法來捕捉邊緣轉換、對齊和半色調檢測中的差異。這樣可以確保準確、實時地評估實際掩碼性能。TENCOR EFEM設備還配備了一套自動檢查和分析軟件,允許集成各種定制設計的質量控制指標和手動審核工具。此外,該系統還提供了一系列可追蹤性和跟蹤功能,使操作員能夠快速準確地檢查生產數據並檢查結果,以正確遵守既定標準。總體而言,EFEM設備在保證口罩和晶片的質量方面提供了卓越的準確性和可重復性。這種功能強大且用途廣泛的解決方案使制造商能夠確保產品質量,並節省時間和金錢。