二手 LEICA / VISTEC INS 3000 DUV #9000424 待售
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已售出
ID: 9000424
晶圓大小: 4"-8"
優質的: 2003
Defect inspection system, 4"-8"
Power console with emergency off switch
Signal tower
Intermediate tube with camera port
Microscope: 5x, 20x, 50x, 100x, 150x(1), 150x(2)
Operator console with trackball and joystick (ASCII keyboard underneath)
Observation tube with eyepieces
X-Y stage
Motorized beamsplitter
LCD monitor
Cassette port with tilting mechanism
Control electronics
Transport wheels
Contamination protection
Prealignment: Contact-free, ± 0.25° rotational < ± 50 micron in x and y
Macro defect control: Optional wobbler with illumination device
User interface: Windows NT based inspection
Interface: RS 232-SECS 1/2, Ethernet interface
DUV Function: Not setup
Does not include: Macro defect control, wobbler with illumination device
2003 vintage.
LEICA/VISTEC INS 3000 DUV是一種面罩和晶圓檢驗設備。其成像面積為13.44 x 13.44微米，用9 nm深紫外線（DUV）激光掃描。該系統能夠檢測小至激光波長十分之一的缺陷，並提供高達每小時2個晶圓的最大檢測吞吐量。該單元還可以檢查高達6 x 6nm特征的多層高分辨率模式。該檢測機設計用於半導體掩模層的缺陷審查、編輯、缺陷分級和關鍵過程檢測。該工具包括一個軟件套件，便於圖像采集、圖像處理和缺陷檢測。軟件提供用戶可控參數，用於自動缺陷識別和缺陷編輯，以及支持自動掩碼檢查，以及帶有自動配方生成的晶圓檢查。該資產擁有高達350165nm的視野，可利用其高分辨率導航模型提供激光視野面積2倍的視野。它配備了先進的成像軟件，為采集、編輯、分級和缺陷概述提供時序和同步。設備還采用可變激光功率來加快操作速度，減少誤報。該系統具有強大的功能集,以確保能夠滿足各種檢查要求。其高性能光學器件允許精確的缺陷檢測和特征表征到納米水平。它配備了一個強大的可調參數單元，用於自動和手動缺陷審查和特征識別。機器還包括先進的圖像處理算法來過濾、增強和調整對比度和亮度。其多層掃描能力是多級檢查的理想選擇。最後,LEICA INS 3000 DUV采用穩定、低維護和經濟高效的體系結構進行設計,以實現可靠的運行。它的多個圖形用戶界面選項和故障安全工具設計為用戶提供了便利和魯棒性。VISTEC INS 3000 DUV的所有這些特點及其先進的掩模和晶片檢測資產使其成為掩模和晶片檢測的絕佳選擇。
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