二手 RIBER CBE-32 #9133521 待售

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製造商
RIBER
模型
CBE-32
ID: 9133521
晶圓大小: 5", 2"x1
Reactor, 5", 2" x 1 Solid source :Si, Al, Ga, In×2, Be×2 Gas source: AsH3, PH3 Chambers: entrance, transfer, growth PHEEd, PYRO, LN2 liquid separate Scrubber for gas.
分子束外延(MBE)是一種用於原子、分子和團簇薄膜晶體生長的技術。RIBER CBE-32 MBE設備是一種堅固耐用的設備,專為提供高質量和高精度的薄膜而設計。本文介紹了一系列基於矽的、可互換的半導體、金屬、電介質等材料沈積源、多級步進自動晶圓換熱器、高容量液氮冷卻傳遞室、精確的溫度控制。低溫束外延技術(CBE)的先進技術通過使用「在非常低的溫度下註入基板的Ar氣體」來提供高度精確的薄膜。這種方法將氣體在非常低的溫度下燃燒,形成具有所需性能的優質材料層。CBE-32系統是建立在這種技術的基礎上,以實現高效和可重復的性能。RIBER CBE-32單元能夠通過使用可編程的加熱和冷卻循環以及精確的機械設計,產生具有極好的均勻性和重復性的高質量層。它還具有多級真空泵機、先進的控制器和數字讀數以及實時溫度控制。由於其獨特的技術,該工具具有很高的沈積速率,並以0.05 nm的精度提供層控制。該資產采用符合人體工程學的設計,用戶友好,便於使用,提高了流程效率。CBE-32還具有確保設備可靠性和可持續性的全面安全和維護功能。此外,由於其潔凈室設計和尖端吸塵室,該模型受到保護,免受汙染。總之,RIBER CBE-32是一種用途極為廣泛、效率極高的分子束外延設備,可提供高質量的薄膜,具有極好的均勻性和可重復性。它還提供先進的溫度控制、多級真空泵送系統、可編程的加熱和冷卻周期以及方便用戶的清潔室設計,以提高性能。CBE-32是業界最可靠的薄膜沈積系統之一。
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