二手 VARIAN / VEECO GEN II #9257205 待售
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ID: 9257205
MBE System
Main chamber
Loadlock
Wafer transfer module
Cryo pump lg
Cryo pump compressor
Wafer trolley
Rod, main chamber, trolley wafer load / Unload
Control rack
Cryo pump SM load lock
Ion source gun
Rod, loadlock, trolley wafer load / Unload
(2) Loadlock cryo pump stands
Variable power supply
Main chamber gate valve poppet assy
Controller, Ion vacuum gauge
Spool piece for trolley
Cables and chamber end mount
(5) Cable tray assemblies
(2) Tracks and trolleys
Misc items:
Bellows
Trolley
Wafer grippers.
VARIAN/VEECO GEN II是一種分子束外延（MBE）設備，用於制造半導體器件。這個系統利用高真空環境，創造出一束可以操縱的粒子束，產生極薄的半導體材料層。該單元可用於創建小的、精確的層，用於建造晶體管和太陽能電池等設備。VEECO GEN II由組成，一個包含兩個大型沈積源的大型機結構，也稱為積液池。這些細胞用於創建分子束，用於將一層材料沈積到基材表面上（被塗覆的物體）。沈積源可以加熱到非常高的溫度，以產生高溫分子的光束。VARIAN GEN II擁有一臺運行渦輪分子泵的泵機，使主機內部的真空保持在非常低的水平（小於10-6 mbar）。這是保證沈積材料良好均勻性的一個重要特點。該工具還由光束轉向機構、快門、控制器、槍葉片等其他幾個部件組成；所有這些都被用來幫助操縱分子束並將其指向所需的底物。槍葉片使資產達到所需的定向角度。快門控制光束的速度，可以調整以改變沈積速度。該型號還配備了電腦化的監控站。該站用於監測大型機內部的狀況，如真空水平和沈積源的溫度。該站還具備控制光束流量、沈積源加熱水平、光束快門速度等設備參數的能力。GEN II是精細、小、精密的半導體材料層制造的完美系統。該單元的靈活性及其快速沈積速率使其能夠創造出很少納米厚的層。這些層的精度和質量是當今使用的現代半導體器件建設成功的關鍵。
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