二手 AIXTRON 2800 G4 HT #9233664 待售

AIXTRON 2800 G4 HT是專門為高溫沈積應用而設計的反應堆，如氧化物和氮化物的生產，或納米材料的生長。這種最先進的技術可用於半導體沈積、氧化物基鈍化和氧化物生長或結晶。它的工作原理是將精確、受控劑量的原料送入密閉真空室中。材料沈積在位於腔室的目標上，這是生產的兩種機制之一。AIXTRON 2800G4 HT反應堆有一個獨特的結構基於幾個容易獲得的組件。核心部件為加熱和冷卻板、磁感器、氣體分配系統（GDS）和準直器。四區熱敏器能夠加熱到2500 °C，設計用於促進整個樣品區域的均勻溫度。準直器設計通過優化氣體分布和減少系統中前體離子的任何重組，幫助最大程度地減少汙染。2800 G4 HT利用遠程等離子體源技術（RPS）進行沈積。這一過程涉及利用電離氣體產生等離子體沈積材料。該工藝效率高，顆粒生成非常低，給用戶精確控制沈積速率和薄膜厚度。該反應堆還使用閉環氣體系統，以確保在沈積過程中沒有氣體丟失或汙染。除了2800G4 HT提供的高沈積速率和精確的工藝控制外，該反應堆還具有出色的氣體處理能力。最終用戶可以從廣泛選擇的氣體中進行選擇，範圍從氙到磷化矽，用於工藝的不同階段或應用。這使用戶能夠最大限度地提高其流程的效率，同時最大限度地減少浪費和最大限度地提高產量。AIXTRON 2800 G4HT是一種高效的反應器，主要用於高溫沈積過程。它對沈積速率和薄膜厚度提供了可靠和精確的控制，具有出色的氣體處理能力，並能處理各種氣體。所有這些特性使其成為任何需要高溫沈積過程的應用的理想解決方案。