二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G2 Minos Poly #9253660 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G2 Minos Poly是一種等離子體蝕刻反應堆，旨在提供研發和工業蝕刻過程中的高生產率。該設備是流行的Centura AP平臺的高級變體,經過專門設計,可提供更好的蝕刻速率、更高的顆粒減少和更好的整體工藝性能。該系統采用獨有的高級高頻（AHF）先進電信技術，以最小的應力提供卓越的等離子體生成、均勻性和過程重復性。此外,Minos Poly還具有三個優化的蝕刻級別（低、中、高）,可實現多種處理功能。該裝置由AMAT設計的0.7毫升高密度等離子體（HDP）源供電。這個來源提供了對蝕刻化學的極好的控制，允許高k和低k蝕刻配方的精確處理。此外，該源還提供了卓越的工藝均勻性和卓越的蝕刻速率優化，大大降低了等離子體對基材的損傷。這座等離子體蝕刻反應堆配備了真空渦輪泵、屏蔽機、0.1 Pa底壓的再循環工具等多種可選配件。此外,Minos Poly能夠同時運行直流和MF操作,從而允許定向和非定向蝕刻配置文件。AMAT Centura AP AdvantEdge G2 Minos Poly與各種蝕刻配方兼容,具有先進的控制和監控功能,包括手動和半自動控制。此外，資產還具有廣泛的過程監測工具，包括過程溫度控制、等離子體發射監測、真空壓力監測和粒子計數能力。總體而言,Minos Poly是一款可靠而堅固的型號,可為各種基板提供精確的蝕刻功能。這種等離子體蝕刻反應器非常適合在電子包裝、PCB制造、半導體器件制造等行業進行大批量生產、研發和測試應用。