二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DLH #9093318 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DLH是一種PECVD（等離子體增強化學氣相沈積）反應器，在工業上用於薄膜沈積。該反應堆用途廣泛，利用感應耦合等離子體（ICP）源在生產環境中實現多種材料的高速率沈積。PECVD工藝被用於許多先進的半導體和微電子應用，如用於光伏應用的薄膜沈積、介電應用、金屬化、敏化層、保護塗層和圖案聚合物。PECVD工藝利用混合氣體與AMAT Centura DLH等設備沈積薄膜。反應堆由一個射頻發電機組成，該發電機向等離子體源發電。反應堆內的等離子體源用於產生電離過程，幫助氣體分子分解反應。然後這個過程在基板上產生沈積層。系統中使用的電源是RF（射頻）和DC（直流電）。等離子體產生的射頻頻率和功率通常是13.56MHZ和250W的。產生的等離子體功率是可變的，可以根據所需的材料沈積進行調整。對於薄膜的快速沈積，可以使用更高的功率，但必須以受控的方式處理，以防止對腔室造成任何損害。應用材料Centura DLH反應堆還安裝了氣體質量流量控制器（GFMCs）,可以準確控制所使用的氣體水平。這些氣體應在系統內進行調整，以達到所需的材料沈積速率。Centura DLH在RF發生器內也有一個加熱區，可以使溫度達400 °C達到。該溫度可用於控制正在生產的薄膜的反應速率和沈積厚度。AMAT/APPLICED MATERIALS Centura DLH的總體設計非常可靠,在多次通過時均能產生一致的結果。該腔室的設計具有低功耗、運行成本和維護要求，在生產介電和厚膜方面效率高。AMAT Centura DLH也是一個全自動的實時監控設備，它允許監控過程參數並進行必要的調整以獲得最佳性能。總之，APPLIED MATERIALS Centura DLH是一種可靠且用途廣泛的PECVD反應器，可以在生產水平環境下生產介電和厚膜。反應堆利用射頻電源來產生等離子體，還具有調節GCM來控制使用的氣體水平。反應堆耗電量低，運行成本低，是微電子工業經濟高效的工具。Centura DLH還具有自動實時監控功能,可實現最佳性能和可靠的結果。