二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9052241 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9052241
CVD System, 8"
Process: SIO
Process chamber:
Chamber A, B: SIO
Chamber D: ETCH
Chamber version:
Chamber A & B: Standard VAT ISO valve
Chamber D: Standard
RF Generator type:
Chamber A & B: OEM-12B
Dry pump type:
Chamber A, B, D & L/L: EBARA 50x20 UERR 6M-J
Throttle valve type:
Chamber A, B & D: Non heated
VME System:
20 Slots
CPU: Synergy
Video: VGA
SEI
AI
AO
(4) DI/DO
(4) Steppers
Hard Disk Drive (HDD)
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Manometer type:
Chamber A & B: MKS 122B 11441
Chamber D: MKS 127AA
RF Matching box type:
Chamber A & B: 0010-09750D DR
Chamber D: 0010-09416
Turbo pump type:
Chamber D: LEYBOLD NT340M
System electronic type:
(2) TC Gauges
Buffer I/O
AI MUX
(2) OPTO
(4) Choppers
+12VPS
+15VPS
-15VPS
Storage elevator: 8 Slots
Cassette handler: Phase III, top clamp
Robot: Phase III
Blade: Phase III
I/O Wafer sensor
Load lock purge
Heat exchanger:
AMAT0:
Connect to chamber A, B & D: Wall / LID
Main frame front type: Through-the-wall
Standard remote frame
TC Gauge type:
Chamber-A Rough: VCR
Chamber-B Rough: VCR
Chamber-D Rough: VCR
L/L Rough: VCR
L/L Chamber: VCR
Lamp module type:
Chamber A & B: STD 0010-09337
Mini-con
Magnet driver type:
Chamber A: P/N 0015-09091
Chamber B: P/N 0015-09573
Chamber C: P/N 0015-70060
Gas panel type: (28) Gases
Signal tower
MFC Type (Main):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calib gas / Maker / Model
B / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
A / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
D / O2 / 100 / N2 / STEC / SEC-4400
D / CF4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
MFC Type (Remote):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calib gas / Maker / Model
B / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
D / AR / 100 / N2 / STEC / SEC-4400
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種物理氣相沈積（PVD）反應器，旨在協助制造微電子器件。它旨在將精確數量的材料沈積到很小的足跡上，使其成為半導體器件制造中的一個有價值的工具。AMAT P-5000使得銅、鋁、鎢、金和其他材料能夠沈積在矽和砷化的基板上。應用材料P 5000利用電弧蒸發或陰極電弧蒸發沈積材料.這個過程涉及高能陽極發射電弧放電，將材料從陽極表面移出，使其在真空中蒸發。然後，這種蒸氣被引導到底物上，形成一個非常均勻的沈積物。該設備設計為適應不同基板的不同要求，並不斷監控，以確保均勻的沈積速率。P-5000最多可容納四個陰極目標，並且可以在一個腔室中沈積多層材料。它還利用了一個「側面多」特征，允許沈積在基板的兩側，不需要第二個腔室或額外的工具。該系統還包括一個原位5軸往復器，可用於旋轉基板，使所有方向均勻沈積。P 5000裝有負載鎖定單元，使輸出速率高達每小時7,000晶圓。它還能夠容納直徑從25毫米到300毫米不等的基板。專有的自動晶片跟蹤器可確保即使是形狀不規則的基板也能沈積。APPLICED MATERIALS P5000支持多種傳感器/監控/可編程邏輯控制（PLC）方法,這些方法保持對過程參數的監控,以防止高效生產出現問題。一些最流行的過程控制技術是光發射光譜（OES）、電化學勢（ECP）和溫度剖析。這臺機器還允許遠程訪問和監視在線流程,這有助於減少停機時間和提高生產率。最後，AMAT/APPLIED MATerials P 5000是一種高度先進和可靠的PVD反應器，旨在協助材料沈積在微電子基板上。其精度、速度和多種過程控制方法使其成為半導體器件制造的有用工具。
還沒有評論