二手 ULVAC Ceraus ZX-1000 #9025887 待售

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製造商
ULVAC
模型
Ceraus ZX-1000
ID: 9025887
優質的: 2000
Metal PVD system, 8" Configured for: Al, Ti Not configured for: Mo (4) Process chambers: PVD Warehoused 2000 vintage.
ULVAC Ceraus ZX-1000是一種高性能濺射設備,能夠在幾乎任何基板上產生精確且可重復的薄層材料。該系統具有四個源(三個直流磁控管和一個射頻偏置),非常適合創建各種薄膜材料特性,並在大面積上提供出色的均勻性。這使得它對於彈道研究、復合半導體沈積和薄膜光學塗層特別有用。ULVAC CERAUS ZX 1000具有一個全封閉的腔室,旨在保持受控環境,以實現最大的濺射性能和可重復性。它的主要成分包括四個可配置的離子源,兩組磁控管,一個射頻振蕩器,以及能夠濺射各種化學成分的靶子。它還提供其他功能,例如用於控制基板溫度、壓力、電壓、氣流和基板運動的自動化軟件界面。另外,它可以適應使用各種氣體控制系統和高性能控制系統,如Qtron-X。Ceraus ZX-1000的電源可靠性很高,能夠實現突出的材料特性和薄層沈積。它的高級顯示也使得監控濺射過程容易得多。它提供了出色的濺射產量和廣泛的操作參數,可以很容易地調整,以實現所需的薄層特性。該裝置設計用於處理各種底物,從晶體和薄膜到聚合物和金屬。CERAUS ZX 1000還具有先進的旋轉磁控管,它提供比傳統磁控管濺射系統更高的濺射產量和均勻性。此外,該機還提供了一種真空抽油機,可用於降低精確薄膜沈積所需的壓力水平。這樣可以更好地控制沈積速度和均勻性,同時不需要單獨的真空資產。總體而言,ULVAC Ceraus ZX-1000是一種出色的濺射模型,能夠在幾乎任何基板上產生可重復、準確和精確的薄層。其先進的顯示和易於使用的軟件界面使其成為任何濺射應用程序的易於使用的工具。其高產率、快速濺射性能,以及與多種基材配合使用的能力,使其成為各種薄膜產品線和研究應用的理想選擇。
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