二手 PHILIPS / FEI Nova NanoLab 600 #9261304 待售

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ID: 9261304
優質的: 2004
Dual beam FIB FEG-SEM system TEM Sample prep Nano characterization Stencil mask fabrication Magnum ion column: 5-7 nm Resolution, 5-30 kV Detector: TLD-SE, TLD-BSE, CDEM, IR-CCD GIS: PT, TEOS OMNIPROBE (Analog system) Includes: Auto slice and view Auto TEM Auto FIB NPGS Lithography 2004 vintage.
PHILIPS/FEI Nova NanoLab 600是為各種納米加工應用而設計的雙束離子銑削設備。它具有先進的光學設計,允許在三個維度上精確傳遞強烈的離子束。該系統利用集成的靜電束偏轉單元將光束精確定位到樣品表面上任何所需的目標。NanoLab 600使用的離子束由離子源產生,可以配置金屬或氣體離子源。金屬離子源使用直流電弧產生低能金屬離子束,如鎢或金,可用於高長寬比蝕刻或納米粉碎。氣體離子源使用射頻等離子體產生氣體離子束,可用於高精度圖樣或納米壓印應用。NanoLab 600內置了一臺功能強大的分析機器,能夠在蝕刻前後對樣品進行半導體表征。該工具利用集成掃描電子顯微鏡(SEM)、電子反向散射衍射(EBSD)、能量色散X射線(EDX)光譜和透射電子顯微鏡(TEM)來更準確地表征和控制蝕刻過程。集成的SEM也可用於蝕刻過程中對樣品的原位觀測。NanoLab 600具有直觀的控制界面,可輕松設置和操作資產。用戶可以使用直觀的圖形用戶界面對各種各樣的納米加工任務進行編程,如蝕刻和銑削。該模型還提供了對蝕刻過程的實時分析以及一套用於進一步分析的後處理工具。NanoLab 600是一款功能強大的設備,提供出色的離子銑削和納米加工功能。它可以用於多種應用,範圍從半導體器件制造、納米技術和微機電系統(MEMS)。其集成的分析系統、直觀的用戶界面和廣泛的功能使其成為納米加工應用的理想單元。
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