二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Star #177547 待售

MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star是一種用於電子材料行業的濺射設備。濺射（Sputtering）是一種物理氣相沈積（PVD）技術，用於在不同表面上創建薄膜層。濺射過程使用惰性氣體（通常是氙）和電壓產生電弧，或「濺射」--使材料汽化，通常放置在目標上。然後將汽化的材料沈積在基板上以產生所需的薄膜。MRC Eclipse Star濺射系統具有保持高水平的重復性和一致的層層沈積質量的能力。這是通過其經過驗證的厚度測量精度、高端可編程性和先進的濺射塗層控制來完成的。TEL Eclipse Star的效果類似於經典的警笛歌曲-它以易於使用的交互式觸摸屏和自動控制單元吸引操作員。觸摸屏是多語言的，允許用戶選擇自己喜歡的語言進行操作。同時，自動控制單元允許對工藝參數進行精確控制。該單元使用戶能夠檢查塗層過程中的精度值並相應調整設置。Eclipse Star還具有智能濺射輪廓控制功能，指示當前被濺射塗層的厚度和均勻性。這一特性可以提供等離子體條件的實時反饋並相應補償。用戶還可以根據需要調整設備的電源。TOKYO ELECTRON Eclipse Star使用了幾種工具來測量被濺射層的厚度和均勻性。濺射機裝有真空沈積厚度計（VDTG）和石英晶體監視器（QCR）。VDTG測量已沈積膜的厚度，而QCR測量沈積速率。這種組合使用戶在厚度和均勻性測量方面具有更高的準確性。最後，MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star可以提供一些附加的附件，如連接套件、氣體控制系統、射頻塗抹器和帶有塗層的旋轉源遠程濺射工具。MRC Eclipse Star是一種強大而高效的濺射資產，非常適合在塗層均勻性和厚度方面要求高精度的行業。它專為小批量和大批量生產而設計，幾乎適合任何應用。通過簡化的用戶界面、質量控制和編程選項,此模型對於廣泛的行業至關重要。