二手 BALZERS LLS EVO #9015975 待售

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BALZERS LLS EVO
已售出
製造商
BALZERS
模型
LLS EVO
ID: 9015975
Sputtering system Substrate: 4" (36 pcs) 6", (12 pcs) holder HV pump: CTI 8F OnBoard (LC / MC) Rough pump: TRIVAC D 65B (LC / MC) Polycold type: PFC 400 LT HV valve: VAT 014 2-POINT (LC), VAT 064 3-POINT (MC) Vent valve: VAP 025 / VAP040, Soft vent MFC 5 slm [N2] Heater: Heater shutter (LC) Etching in LC: RF sputter etch Electrical: 3 x 400 VAC, 60 Hz Power supplies: # 1, 2: DC 6 kW # 3: RF 2.5 kW Cathodes: Power supply #1: 1, 3 Power supply #2: 4, 5 Power supply #3: etch, 2 Target material: Ta: 1 SiO2: 2 Ta: 3 AlCu: 4 NiCr: 5 Manual handling Accessories: Second set of shields Second set of substrate tooling.
BALZERS LLS EVO是為先進薄膜應用研究而設計的濺射設備。該系統提供了諸如薄膜的沈積、蝕刻和圖案化等創新的工藝解決方案。適用於多種材料和應用,包括半導體、金屬和絕緣體。LLS EVO是一種多功能機器,具有高級軟件,為用戶提供廣泛的濺射和蝕刻過程。它易於操作和定制,以滿足各種濺射過程。該單元具有較大的腔室能力,可讓用戶在大面積上實現極為均勻的薄膜。BALZERS LLS EVO濺射機的原理是利用氣相工藝,以提供更好的表面積和更低的溫度處理。這一過程是通過向腔室中引入惰性氣體,例如氙、k、氮、氙來實現的。這些氣體在腔內加速至約700 m/s,並與濺射目標碰撞。這導致靶標帶電,惰性氣體被電離,產生電等離子體,由此引發濺射,薄膜沈積在基板上。LLS EVO濺射工具能提供極高品質和高均勻性的薄膜。它還允許以不同的速率沈積薄膜,這取決於目標材料和所塗覆的類型。資產的設計使得沈積率可以變化,以滿足特定應用的需求。BALZERS LLS EVO還為用戶提供了高精度制作薄膜的能力。例如,原子層沈積(ALD)工藝允許高沈積速率和極均勻的薄膜,具有優良的薄膜質量。此外,與模型相關的光學和隧道顯微鏡可以對表面和界面結構進行精確的監測。綜上所述,LLS EVO濺射設備是薄膜研發的有力工具。它旨在為用戶提供多種用途廣泛的濺射和蝕刻工藝,並確保均勻和高質量的薄膜。該系統還具有先進的軟件,允許用戶以高精度制造薄膜。
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