二手 CANON / ANELVA C-7730FH #9167768 待售

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CANON / ANELVA C-7730FH
已售出
ID: 9167768
晶圓大小: 5"
Sputtering system, 5".
CANON/ANELVA C-7730FH濺射設備是為生產目的而設計的先進濺射沈積系統。CANON C-7730FH的設計具有可靠和可重現的效果,具有廣泛的出色的濺射沈積參數和特點。適用於薄膜沈積、鈍化層沈積、保護層形成等應用。ANELVA C-7730FH是一種雙室逐行配置,具有獨特的設計,可最大限度地提高生產效率和準確性。濺射單元最多可以配置三個濺射源,允許每個源的獨立操作。它還具有高精度的樣品端口定位機,用於精確和可重復的樣品定位。濺射源帶有陰影面罩,用於大面積薄膜均勻濺射沈積。C-7730FH利用CANON專有的電動氣動工具進行濺射控制。這種資產在控制材料的沈積速率及其均勻性方面具有很高的精確度。該模型還具有較低的濺射速率衰減,防止材料長期磨損。佳能/ANELVA C-7730FH也擁有穩定和長期的電影均勻性。設備的優越均勻性通過其電動氣動系統和遮罩確保了大面積的均勻沈積。CANON C-7730FH具有高沈積率的薄膜,具有廣泛的濺射條件,可以提供不同特性的薄膜。ANELVA C-7730FH還配備了地面故障中斷器,以防止觸電。該裝置還配備了防靜電機器,以盡量減少靜電積聚和對工具的潛在損害。C-7730FH是為最終可靠性而設計的,對維護服務的需求最小。CANON/ANELVA C-7730FH濺射資產是一種先進可靠的濺射沈積模型,具有廣泛的良好濺射沈積參數。其雙室、逐行配置最大限度地提高了生產率和精度,是形成保護層、薄膜沈積和鈍化層的理想選擇。設備的電氣動控制、高精度采樣端口定位系統和遮罩具有良好的薄膜均勻性,而其接地故障中斷和低濺射速率衰減保證了可靠性和長期穩定性。
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