二手 CANON / ANELVA EVP-0141A #9097673 待售

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CANON / ANELVA EVP-0141A
已售出
ID: 9097673
Sputtering system Process: Al.
CANON/ANELVA EVP-0141A是一種先進的濺射設備,設計用於將薄膜材料沈積到目標基板上。通用系統是醫療、工業、光電、半導體等多種應用的理想選擇。它是一個全自動單元,由集成的射頻驅動等離子體源、真空室和高精度定位器組成。該機具有不對稱磁控管濺射頭,利用先進的磁場進行內外電離。這使得厚度範圍從10到15,000埃的薄膜具有較高的沈積速率。該工具還能夠通過在濺射過程中使用不同氣體來控制沈積層的表面成分。集成的RF驅動等離子體源允許多層塗層具有非凡的均勻性。這消除了針孔和其他表面缺陷的產生。該源進一步與精確的溫度控制相結合,以實現均勻和可重復的沈積過程。高壓源還能夠產生高達20 μ米的絕緣隔離膜。佳能EVP-0141A濺射資產配備了高精度過濾模型。這確保了沈積過程中室內沒有顆粒物。過濾設備是自動化和自我監測的,確保沈積過程有效運行。ANELVA EVP-0141A系統提供精確的定位和創新的運動控制.這確保了目標基板在均勻和可預測的沈積過程中的準確定位。多軸表提供任何方向基板位置的平滑運動和調整。EVP-0141A單元是任何濺射應用的絕佳選擇。它的多功能性和先進的特性使得它成為任何需要精確薄膜沈積的應用的理想選擇。多軸定位和先進的過濾機保證了塗層質量的一致和可靠的效果。對於希望擴展其濺射能力的任何組織來說,該工具都是一項低成本投資。
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