二手 CANON / ANELVA ILC 1051 MKII #9220284 待售

CANON/ANELVA ILC 1051 MKII是一種動態濺射設備，設計用於各種工業應用的各種材料的氣相沈積和表面處理。用於金屬、陶瓷和半導體材料的塗覆和清潔，以及薄膜沈積。該系統包括三個主要組成部分：電源、加工室和真空裝置。電源能夠為濺射、離子銑削和薄膜生長提供高達500瓦的功率。加工室容納底物、目標材料和陰極。它通常連接到真空泵，用於沈積時保持腔室內的真空。CANON ILC 1051 MKII利用直流（DC）陰極，能夠在低頻（100 kHz）下產生高沈積速率，並能產生高密度薄膜。它具有集成的過程控制功能，可用於調整目標材料的電流、電壓、入射角和溫度。此外，機器還配備了數字讀出顯示器，可以清晰地監控工藝參數。與其他濺射系統相比，該工具在相對較低的溫度下運行，這使得它適用於一系列材料應用，包括耐火金屬、陶瓷靶標和矽片基板。工藝室也是溫度控制的，可以在沈積過程中進行精確的溫度控制。該資產也適用於導電、絕緣和半導電薄膜的PVD（物理氣相沈積）。此過程允許原子級精度的逐層沈積。它也可用於氧化膜沈積，在光電和電子器件應用中有用。該模型還能夠生產具有優異光學性能的均勻光滑表面塗層。總體而言,ANELVA ILC-1051 MKII是一種先進的濺射設備,可提供廣泛的應用和功能。能夠產生高質量的薄膜沈積，適用於多種材料。該系統還提供精確的過程控制、溫度控制和逐層沈積。所有這些特性使得它成為研究人員和工業專業人士尋找一個多功能和可靠的濺射單元的絕佳選擇。