二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9151423 待售

CANON/ANELVA ILC 1051是一種等離子體濺射沈積設備，設計用於研究和工業應用。它利用磁控管濺射技術，即電流通過等離子體轟擊目標的過程，釋放沈積在底物上的離子。該系統設計用於薄膜沈積的最大精度和均勻性，能夠處理多種材料，包括金屬、電介質和陶瓷。CANON ILC 1051具有精確的四軸設計,可有效控制基板到目標角度。它還包括對基板進行均勻熱管理的先進溫度控制，以及一個低壓濺射室，以將濺射原子降至最低。ANELVA ILC-1051可以配置多達四個DC或RF濺射源，使其能夠以更大的均勻性濺射更大的區域。整個單元通過圖形用戶界面控制，允許用戶快速設置和監控機器。ILC 1051提供了多種功能來幫助用戶產生高質量的濺射效果。該工具包括自動壓力和溫度控制，以及監測氧氣和其他反應性氣體的系統。此外，該資產還具有大功率抽水模型，在沈積室中保持清潔和低壓環境。有數據記錄設備監控所有參數，系統可以執行蝕刻、塗層等其他任務。總體而言，ANELVA ILC 1051是需要薄膜精確濺射沈積的研究和工業應用的理想選擇。其先進的特性，如溫度控制、低壓室、人性化界面，使其成為在多種材料上濺射高品質薄膜的絕佳選擇。它的四軸設計允許有效地控制基板到目標角度，並在沈積過程中提供均勻性。CANON/ANELVA ILC-1051可以處理廣泛的材料，其精確的設計和先進的特性保證了可靠和高質量的薄膜沈積。