二手 CVC 601 #9046395 待售

CVC 601是一種用於將各種薄膜材料沈積到基板上的濺射設備。它具有獨特的結構，沈積目標和樣品基板安裝在不同的轉盤上，每個轉盤可調整成多種角度。這使得薄膜可以在彎曲或彎曲的表面上均勻沈積，使其成為許多真空沈積應用的一個有吸引力的選擇。該系統由一個工藝室、高真空旋轉泵和旋轉接頭組成，提供從腔室到濺射源的真空緊密連接。目標材料以磁性方式安裝在目標支架上，可根據不同角度進行調節，使目標可以旋轉，以使薄膜均勻沈積。然後將樣品基板安裝到與樣品轉盤相連的基板支架上。可調轉盤允許樣品旋轉，即使在曲面上也能均勻均勻地沈積薄膜。在操作中，設備將向下泵送工藝室，直到達到預定的真空水平。然後將濺射源供電並濺射到基板上,從而創建所需的薄膜。可以調整目標角和轉盤速度，以控制沈積膜的厚度和均勻性。601還具有廣泛的控制和監控裝置。其中包括一個樣品壓力監測儀來監測工藝室壓力，以及一個排放監測儀來監測濺射過程中的碳汙染程度。其他功能包括過電流保護、泵壓力和薄膜厚度的數字讀數、可編程計時器和手動覆蓋控制。CVC 601機器被設計用於許多薄膜沈積應用，如光學濾波器、半導體器件、介電塗層、金剛石狀碳塗層的生產。其獨特的設計使其能夠提供薄膜材料的均勻、受控沈積，而無需復雜的後處理。在具有成本效益的設計中提供可靠的結果和效率，是薄膜沈積行業的一個有吸引力的選擇。