二手 CVC 611 #9160360 待售

CVC 611是一種多目標反應性濺射設備，旨在以最大的速度和效率在大面積上沈積薄膜。利用磁控管濺射技術和計算機控制的基板支架，創造出高品質的薄膜性能。611濺射系統由幾個部件組成，包括目標輪、變頻器、磁控管、基板支架、工藝室、基板間隔板、水冷板和控制器。目標輪包含六個目標，每個目標都有自己的變頻器，能夠實現多個濺射配置。變頻器允許在濺射過程中微調功率。磁控管設計用來產生高密度的等離子體，為基板提供均勻的塗層。基板支架內置了溫度和氣體壓力控制傳感器。該工藝室配有用於濺射控制的耐火材料和用於等離子體控制的電離氣體。它還有一個帶真空泵的疏散單元，以提高濺射速率。基板間隔板提供了一個均勻的基板間距和定位室內。冷卻面板使用水冷卻濺射的基板並維持腔室溫度。CVC 611上的控制器允許精確的電源應用和目標定時。611濺射機用途廣泛，可在大面積上沈積多種薄膜。它提供出色的覆蓋範圍、精度、速度和效率。它常用於先進的光刻、半導體器件制造、數據存儲和生物科學等行業。CVC 611是一種可靠而堅固的工具,可提供一致且持久的性能。