二手 DENTON VACUUM DESK II #9114743 待售

DENTON VACUUM DESK II是為真空沈積和薄膜塗層領域研發而設計的下一代濺射設備。該系統非常適合沈積高導電和介電薄膜，如氧化物、氮化物、碳化物和合金，精度和可靠性。該裝置配備了定制的多室配置，包括渦輪分子泵、初級真空室、加工室、電子炮室和過濾室。這臺機器是為方便樣品裝卸而設計的。它還由一個先進的閉環過程控制器組成，能夠實現順序膜濺射應用的完全自動化。該工具具有高速濺射沈積能力，在42英寸寬的大面積上具有極好的均勻性。它還具有高度的多功能性,能夠將各種元素和復合目標的材料與各種基板安裝構型相結合。該工藝控制器還具有五十個可編程的配方存儲器，這樣就可以存儲多達五十個預定配方以供將來使用。通過直觀的圖形用戶界面可以方便地修改工藝參數，其中包括各種各樣的輸入/輸出選項和多達六個工藝參數，包括壓力、溫度、基板偏置、目標偏置、沈積速率和薄膜厚度。用戶友好型設計包括預編程參數和用戶定義參數。該資產還具有八個直接加熱器，用於基板和目標溫度均勻性和低放氣率，以及兩個用於廣泛工藝控制優化的射頻基板偏置源。先進的RPM控制使用戶能夠優化用於薄膜和厚沈積物的參數。該模型通過光學發射光譜提供了先進的光學監測，使用戶能夠徹底分析薄膜沈積速率並相應調整參數。此外,遠程服務端口還提供數據庫查詢、流程診斷和調整的完全遠程訪問。這樣可以減少與現場服務呼叫相關的時間和成本,從而確保流程的持續效率。總之，DESK II是一種先進的濺射設備，它以直觀的圖形用戶界面和可靠的閉環過程控制提供卓越的薄膜均勻性和準確性。其多室配置實現了廣泛的工藝優化，其先進的光學監測進一步確保了有效的濺射沈積。該系統非常適合要求操作精確、可靠、擁有成本低的研發。